| 摘要 | 第1-5页 |
| ABSTRACT | 第5-8页 |
| 第一章 文献综述 | 第8-18页 |
| ·引言 | 第8-9页 |
| ·二氧化钛的初步认识 | 第9-12页 |
| ·二氧化钛的用途 | 第9-10页 |
| ·二氧化钛的晶体结构 | 第10-12页 |
| ·二氧化钛的光催化原理 | 第12-13页 |
| ·二氧化钛光催化性能的提高 | 第13-15页 |
| ·晶型的种类 | 第13页 |
| ·比表面积 | 第13页 |
| ·贵金属沉积和复合半导体 | 第13-14页 |
| ·表面光敏化 | 第14页 |
| ·离子掺杂 | 第14页 |
| ·晶粒尺寸 | 第14-15页 |
| ·本章小结 | 第15页 |
| 参考文献 | 第15-18页 |
| 第二章 二氧化钛薄膜的制备与表征 | 第18-33页 |
| ·二氧化钛薄膜的制备方法简介 | 第18-26页 |
| ·液相沉积法 | 第18-19页 |
| ·溶胶-凝胶(Sol-Gel)法 | 第19-20页 |
| ·化学气相沉积法 | 第20-21页 |
| ·溅射法 | 第21-24页 |
| ·本实验仪器概况 | 第24-26页 |
| ·薄膜的表征 | 第26-31页 |
| ·X射线衍射 | 第26-28页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第28-29页 |
| ·光催化测试 | 第29-31页 |
| ·本章小结 | 第31页 |
| 参考文献 | 第31-33页 |
| 第三章 二氧化钛薄膜的直流磁控溅射法制备 | 第33-52页 |
| ·薄膜的生长理论 | 第33-35页 |
| ·实验 | 第35-37页 |
| ·基片清洗 | 第36页 |
| ·二氧化钛的制备 | 第36-37页 |
| ·溅射时间对薄膜性能的影响 | 第37-40页 |
| ·衬底温度对薄膜性能的影响 | 第40-42页 |
| ·溅射总气压的影响 | 第42-46页 |
| ·氧气分压的影响 | 第46-48页 |
| ·本章小结 | 第48-49页 |
| 参考文献 | 第49-52页 |
| 第四章 共溅射法二氧化钛表面镀银及薄膜的光致亲水性 | 第52-62页 |
| ·引言 | 第52-53页 |
| ·实验 | 第53页 |
| ·共溅射薄膜表面形貌以及光催化特性 | 第53-56页 |
| ·亲水性 | 第56-60页 |
| ·基本原理 | 第56-57页 |
| ·接触角 | 第57-58页 |
| ·不同薄膜亲水性的测量 | 第58-60页 |
| ·本章小结 | 第60页 |
| 参考文献 | 第60-62页 |
| 第五章 结论 | 第62-65页 |
| 致谢 | 第65页 |