中文摘要 | 第1-4页 |
ABSTRACT | 第4-7页 |
第一章 绪论 | 第7-12页 |
·超短脉冲激光的发展和应用 | 第7-9页 |
·超短脉冲激光的发展 | 第7-8页 |
·超短脉冲激光的应用 | 第8-9页 |
·锁模光纤激光器的发展和优点 | 第9-10页 |
·锁模光纤激光器的发展 | 第9页 |
·锁模光纤激光器的优点 | 第9-10页 |
·半导体可饱和吸收镜的发展 | 第10-11页 |
·本论文的主要工作 | 第11-12页 |
第二章 半导体可饱和吸收镜基本原理和设计 | 第12-32页 |
·半导体可饱和吸收镜的基本概念 | 第12-17页 |
·半导体可饱和吸收镜简介 | 第12页 |
·半导体可饱和吸收镜的微观特性 | 第12-13页 |
·半导体可饱和吸收镜的宏观特性 | 第13页 |
·半导体可饱和吸收镜的设计要求设计要求 | 第13-14页 |
·半导体可饱和吸收镜的类型 | 第14-17页 |
·半导体可饱和吸收镜设计基本原理 | 第17-20页 |
·半导体可饱和吸收镜的反射率的计算理论 | 第17-18页 |
·半导体可饱和吸收镜的电场分布的计算理论 | 第18-20页 |
·半导体可饱和吸收镜结构设计 | 第20-31页 |
·运用于1064nm光纤激光器的半导体可饱和吸收镜 | 第20-22页 |
·运用于1064nm固体激光器的半导体可饱和吸收镜 | 第22-25页 |
·应用于1550nm固体激光器的半导体可饱和吸收镜 | 第25-28页 |
·运用于800nm钛宝石激光器的半导体可饱和吸收镜 | 第28-31页 |
·小结 | 第31-32页 |
第三章 半导体可饱和吸收镜损伤阈值的测量 | 第32-39页 |
·飞秒激光同材料相互作用 | 第32-33页 |
·实验装置及过程 | 第33-34页 |
·实验结果 | 第34-38页 |
·800nm SESAM不同脉冲宽度的比较 | 第34-36页 |
·800nmSESAM不同类别的比较 | 第36-37页 |
·1064nmSESAM镀膜与不镀膜的比较 | 第37-38页 |
·小结 | 第38-39页 |
第四章 掺Yb~(3+)双包层锁模光纤激光器的基本原理 | 第39-50页 |
·Yb~(3+)离子的能级结构和光谱特性 | 第39-40页 |
·双包层光纤的特性 | 第40-43页 |
·光纤激光器锁模的基本原理 | 第43-50页 |
·克尔效应型被动锁模的基本原理 | 第43-46页 |
·半导体可饱和吸收镜(SESAM)被动锁模原理 | 第46-48页 |
·自相似脉冲产生的理论 | 第48-50页 |
第五章 掺Yb~(3+)锁模光纤激光器的实验研究 | 第50-55页 |
·实验要求和实验设计 | 第50-51页 |
·利用SESAM实现皮秒锁模的实验装置 | 第50页 |
·利用非线性偏振旋转实现飞秒锁模的实验装置 | 第50-51页 |
·连续光状态的实验研究 | 第51-53页 |
·锁模光状态实验结果 | 第53-55页 |
·利用非线性偏振旋转实现锁模的实验 | 第54页 |
·利用非线性偏振旋转和SESAM实现锁模的实验 | 第54-55页 |
第六章 总结及前景展望 | 第55-57页 |
·论文工作总结 | 第55-56页 |
·前景展望 | 第56-57页 |
参考文献 | 第57-61页 |
发表论文和科研情况说明 | 第61-62页 |
致谢 | 第62页 |