| 第一章 文献综述 | 第1-30页 |
| ·前言 | 第10页 |
| ·TiO_2的光催化机理 | 第10-13页 |
| ·纳米TiO_2的光催化原理 | 第10-12页 |
| ·纳米TiO_2掺杂机理 | 第12-13页 |
| ·TiO_2光催化剂的掺杂 | 第13-16页 |
| ·常见过渡金属离子掺杂 | 第13-14页 |
| ·稀土元素掺杂 | 第14页 |
| ·贵金属沉积 | 第14-15页 |
| ·阴离子掺杂 | 第15页 |
| ·半导体复合 | 第15-16页 |
| ·掺杂TiO_2光催化性能的影响因素 | 第16-18页 |
| ·掺杂离子的能级对催化活性的影响 | 第16页 |
| ·掺杂离子的电子轨道构型 | 第16-17页 |
| ·掺杂离子的半径对催化活性的影响 | 第17页 |
| ·掺杂离子的掺入量对催化活性的影响 | 第17页 |
| ·掺杂光催化剂颗粒尺寸的影响 | 第17-18页 |
| ·固定型负载 | 第18-19页 |
| ·掺杂二氧化钛光催化剂粉体的常见制备方法 | 第19-22页 |
| ·光催化分解水制氢 | 第22-27页 |
| ·光催化分解水制氢原理 | 第22-23页 |
| ·常见的光分解水制氢催化剂 | 第23-27页 |
| ·Cds及其修饰半导体 | 第23页 |
| ·复合半导体光催化剂 | 第23-24页 |
| ·离子交换层状结构光催化剂 | 第24-25页 |
| ·WO_3及其修饰半导体 | 第25-26页 |
| ·Z型光催化反应体系 | 第26-27页 |
| ·研究展望 | 第27-28页 |
| ·选题依据和意义 | 第28-30页 |
| 第二章 Eu、Si共掺杂TiO_2光催化剂 | 第30-44页 |
| ·引言 | 第30页 |
| ·实验部分 | 第30-33页 |
| ·主要试剂 | 第30页 |
| ·主要实验仪器 | 第30-31页 |
| ·催化剂的制备 | 第31页 |
| ·光催化反应 | 第31-32页 |
| ·甲基橙的标准曲线 | 第32-33页 |
| ·甲基橙在不同光催化剂上的吸附测定 | 第33页 |
| ·结果与讨论 | 第33-38页 |
| ·不同光催化剂的光催化活性对比分析 | 第33-34页 |
| ·Si，Eu掺杂对TiO_2光催化活性的影响 | 第34-36页 |
| ·XRD分析 | 第36-37页 |
| ·FT-IR光谱分析 | 第37-38页 |
| ·甲基橙在不同光催化剂表面的吸附分析 | 第38页 |
| ·讨论 | 第38-41页 |
| ·Si掺杂对TiO_2光催化活性产生影响的原因 | 第38-40页 |
| ·Eu掺杂对TiO_2光催化活性产生影响的原因 | 第40-41页 |
| ·Eu、Si共掺杂对TiO_2活性产生协同效应的原因 | 第41-43页 |
| ·本章小结 | 第43-44页 |
| 第三章 稀土掺杂TiO_2对其光催化制氢活性的影响 | 第44-55页 |
| ·引言 | 第44页 |
| ·实验部分 | 第44-46页 |
| ·主要试剂 | 第44页 |
| ·主要实验仪器 | 第44-45页 |
| ·催化剂的制备 | 第45页 |
| ·TiO_2膜电极的制备及电分析 | 第45页 |
| ·光催化反应 | 第45-46页 |
| ·结果与讨论 | 第46-54页 |
| ·甲醛和铂对TiO_2光催化制氢反应的影响 | 第46页 |
| ·铂负载量对TiO_2光催化制氢反应的影响 | 第46-47页 |
| ·铂修饰的稀土掺杂TiO_2的光催化制氢活性 | 第47-48页 |
| ·XRD的分析结果 | 第48-52页 |
| ·光电流-电位(I_(ph)—E)曲线分析 | 第52-54页 |
| ·本章小结 | 第54-55页 |
| 第四章 结论 | 第55-57页 |
| 参考文献 | 第57-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 附录 | 第63页 |