| 第一章 引言 | 第1-16页 |
| ·热离子能量转换器的工作原理 | 第8-9页 |
| ·热离子能量转换器对发射极表面的要求 | 第9-10页 |
| ·国内外发射极涂层制备工艺研究情况 | 第10-12页 |
| ·国内外气相沉积钨涂层微观组织的分析情况 | 第12-15页 |
| ·本项研究的目的、意义及主要研究内容 | 第15-16页 |
| 第二章 试样制备技术的研究 | 第16-22页 |
| ·光学显微镜、扫描电镜试样的制备 | 第16-19页 |
| ·试样的磨制 | 第16页 |
| ·试样的抛光 | 第16-18页 |
| ·机械化学抛光工艺的研究 | 第17页 |
| ·电解抛光及电解侵蚀工艺研究 | 第17-18页 |
| ·试样的化学侵蚀技术的研究 | 第18-19页 |
| ·试样的氩离子侵蚀 | 第19页 |
| ·透射电镜试样的制备 | 第19-20页 |
| ·本章小结 | 第20-22页 |
| ·单晶试样制备的要点及工艺过程 | 第20-21页 |
| ·试剂侵蚀的最佳时间及其影响因素 | 第21-22页 |
| 第三章 试样微观组织和成分的扫描电镜分析 | 第22-32页 |
| ·钨单晶涂层及涂层与基体界面的形貌分析 | 第22-26页 |
| ·形貌分析的实验方法 | 第22页 |
| ·形貌分析的实验结果及讨论 | 第22-26页 |
| ·钨单晶涂层及扩散层的成分分析 | 第26-30页 |
| ·成分分析的实验方法 | 第26-27页 |
| ·成分分析的实验结果 | 第27-29页 |
| ·成分分析的实验结果讨论 | 第29-30页 |
| ·钼、钨的互扩散特性分析 | 第29-30页 |
| ·界面碳、氧等杂质元素对涂层性能的影响分析 | 第30页 |
| ·本章小结 | 第30-32页 |
| 第四章 试样的微观组织和成分的透射电镜分析 | 第32-39页 |
| ·透射电镜分析实验方法 | 第32页 |
| ·透射电镜分析实验结果 | 第32-36页 |
| ·透射电镜下的成分分析结果 | 第32-33页 |
| ·涂层及涂层与基体界面的TEM形貌 | 第33-34页 |
| ·涂层、互扩散层、基体的晶体取向 | 第34-35页 |
| ·涂层、互扩散层、基体的高分辨晶格像 | 第35-36页 |
| ·透射电镜实验结果分析 | 第36-38页 |
| ·基体点阵取向对涂层的择优取向影响分析 | 第36-37页 |
| ·气相沉积温度对钨单晶涂层微观组织影响分析 | 第37-38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第五章 钨{110}晶面蚀刻工艺研究及表面形貌分析 | 第39-46页 |
| ·实验方法及试样的制备 | 第39-40页 |
| ·实验结果 | 第40-42页 |
| ·实验结果分析 | 第42-45页 |
| ·实验结果晶面构成分析 | 第42-44页 |
| ·俄罗斯试样可以获得最高{110}晶面份额的理论值分析 | 第44页 |
| ·高份额{110}晶面形成原因分析 | 第44-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第六章 研究工作结论与建议 | 第46-48页 |
| ·研究工作结论 | 第46-47页 |
| ·建议开展的研究工作 | 第47-48页 |
| 参考文献 | 第48-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 攻读学位期间发表的论文与撰写的报告 | 第54-55页 |
| 附表 | 第55-64页 |