| 摘要 | 第3-4页 |
| abstract | 第4-5页 |
| 第1章 绪论 | 第10-25页 |
| 1.1 课题综述 | 第10页 |
| 1.2 低杂散光光栅 | 第10-13页 |
| 1.2.1 低杂散光光栅的应用背景 | 第10-11页 |
| 1.2.2 低杂散光光栅的研究现状 | 第11-13页 |
| 1.3 大尺寸光栅 | 第13-20页 |
| 1.3.1 大尺寸光栅的应用背景 | 第14-15页 |
| 1.3.2 大尺寸光栅的研究现状 | 第15-20页 |
| 1.4 扫描曝光方法 | 第20-23页 |
| 1.4.1 细光束扫描曝光法 | 第20-21页 |
| 1.4.2 近距离扫描曝光法 | 第21-23页 |
| 1.5 课题的提出和研究内容 | 第23-24页 |
| 1.6 论文结构安排 | 第24页 |
| 本章小结 | 第24-25页 |
| 第2章 扫描曝光方法的理论基础 | 第25-38页 |
| 2.1 引言 | 第25页 |
| 2.2 扫描曝光原理 | 第25-31页 |
| 2.2.1 扫描曝光的条件 | 第25-28页 |
| 2.2.2 漂移误差的影响 | 第28-31页 |
| 2.3 条纹锁定原理 | 第31-37页 |
| 2.3.1 干涉条纹表达式 | 第31-35页 |
| 2.3.2 位相锁定原理 | 第35-37页 |
| 2.3.3 姿态锁定原理 | 第37页 |
| 本章小结 | 第37-38页 |
| 第3章 基于参考光栅条纹锁定的短距离扫描曝光方法 | 第38-60页 |
| 3.1 引言 | 第38页 |
| 3.2 实验系统 | 第38-44页 |
| 3.2.1 扫描曝光系统 | 第38-41页 |
| 3.2.2 位相锁定方法 | 第41-43页 |
| 3.2.3 显影监测系统 | 第43-44页 |
| 3.3 实验参数 | 第44-48页 |
| 3.3.1 主要元件参数 | 第44-45页 |
| 3.3.2 位相锁定指标 | 第45-48页 |
| 3.3.3 平移台转角引起的姿态误差 | 第48页 |
| 3.4 实验结果 | 第48-59页 |
| 3.4.1 基于AOM位相锁定：栅线笔直度和表面粗糙度 | 第49-54页 |
| 3.4.2 基于AOM位相锁定：杂散光水平 | 第54-56页 |
| 3.4.3 基于AOM位相锁定：与商用光栅对比 | 第56-57页 |
| 3.4.4 基于PZT位相锁定：栅线笔直度、表面粗糙度和杂散光 | 第57-59页 |
| 本章小结 | 第59-60页 |
| 第4章 基于参考光栅条纹锁定的长距离扫描曝光方法 | 第60-76页 |
| 4.1 引言 | 第60页 |
| 4.2 实验系统 | 第60-65页 |
| 4.2.1 扫描曝光系统 | 第60-62页 |
| 4.2.2 姿态锁定方法 | 第62-64页 |
| 4.2.3 扫描曝光流程 | 第64-65页 |
| 4.3 实验参数 | 第65-71页 |
| 4.3.1 主要元件参数 | 第65-66页 |
| 4.3.2 姿态锁定指标 | 第66-68页 |
| 4.3.3 光束宽度 | 第68-70页 |
| 4.3.4 参考光栅 | 第70-71页 |
| 4.4 实验结果 | 第71-75页 |
| 4.4.1 栅线笔直度和占宽比 | 第71-73页 |
| 4.4.2 表面粗糙度和杂散光 | 第73-74页 |
| 4.4.3 该方案的主要问题 | 第74-75页 |
| 本章小结 | 第75-76页 |
| 第5章 基于潜像光栅条纹锁定的长距离扫描曝光方法 | 第76-100页 |
| 5.1 引言 | 第76页 |
| 5.2 实验系统 | 第76-84页 |
| 5.2.1 扫描曝光系统 | 第76-78页 |
| 5.2.2 条纹锁定方法 | 第78-80页 |
| 5.2.3 线性曝光技术 | 第80-82页 |
| 5.2.4 扫描曝光流程 | 第82-84页 |
| 5.3 实验参数 | 第84-93页 |
| 5.3.1 主要元件参数 | 第84-86页 |
| 5.3.2 条纹锁定指标 | 第86-87页 |
| 5.3.3 光束宽度 | 第87-90页 |
| 5.3.4 准直透镜 | 第90-92页 |
| 5.3.5 甩胶厚度 | 第92-93页 |
| 5.4 实验结果 | 第93-99页 |
| 5.4.1 槽形均匀性 | 第94-96页 |
| 5.4.2 衍射波面 | 第96-99页 |
| 本章小结 | 第99-100页 |
| 第6章 总结与展望 | 第100-103页 |
| 6.1 论文工作总结 | 第100-101页 |
| 6.2 展望 | 第101-103页 |
| 参考文献 | 第103-109页 |
| 致谢 | 第109-111页 |
| 附录A 用短距离扫描曝光方法制作金属-介质膜光栅 | 第111-121页 |
| A.1 实验系统 | 第111-112页 |
| A.2 实验结果 | 第112-121页 |
| A.2.1 实验参数 | 第113页 |
| A.2.2 微观结构 | 第113-114页 |
| A.2.3 均匀性 | 第114-115页 |
| A.2.4 光谱 | 第115-117页 |
| A.2.5 杂散光 | 第117-119页 |
| A.2.6 损伤阈值 | 第119-121页 |
| 附录B 基于潜像光栅条纹锁定的长距离扫描曝光操作实例 | 第121-125页 |
| B.1 开机准备 | 第121-122页 |
| B.2 系统初始化 | 第122-123页 |
| B.3 静止和线性曝光 | 第123页 |
| B.4 记录初始潜像光栅干涉条纹 | 第123页 |
| B.5 条纹锁定切换 | 第123-124页 |
| B.6 扫描曝光 | 第124页 |
| B.7 最终结束 | 第124-125页 |
| 个人简历、在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第125页 |
