激光诱导等离子体沉积工艺及其应用
| 摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 1 绪论 | 第10-23页 |
| 1.1 引言 | 第10页 |
| 1.2 激光诱导沉积技术 | 第10-16页 |
| 1.3 激光诱导等离子体沉积技术的国内外研究现状 | 第16-20页 |
| 1.4 研究意义、研究内容及创新点 | 第20-23页 |
| 2 实验材料、设备及方法 | 第23-30页 |
| 2.1 实验材料及仪器 | 第23-26页 |
| 2.2 激光加工设备 | 第26-28页 |
| 2.3 测试表征方法 | 第28-29页 |
| 2.4 本章小结 | 第29-30页 |
| 3 激光诱导等离子体沉积的影响因素及机理分析 | 第30-47页 |
| 3.1 前言 | 第30页 |
| 3.2 紫外纳秒激光诱导等离子体沉积实验 | 第30-38页 |
| 3.3 红外纳秒激光诱导等离子体沉积实验 | 第38-41页 |
| 3.4 大面积铜层制备 | 第41-43页 |
| 3.5 实验机理分析 | 第43-45页 |
| 3.6 本章小结 | 第45-47页 |
| 4 激光诱导等离子体沉积结构性能分析及应用 | 第47-68页 |
| 4.1 前言 | 第47页 |
| 4.2 铜沉积层结构性能分析 | 第47-58页 |
| 4.3 玻璃表面结构性能分析 | 第58-60页 |
| 4.4 铜层结合强度分析 | 第60-63页 |
| 4.5 铜图案制作 | 第63-66页 |
| 4.6 本章小结 | 第66-68页 |
| 5 全文总结与展望 | 第68-70页 |
| 5.1 全文总结 | 第68-69页 |
| 5.2 目前存在的问题和今后工作展望 | 第69-70页 |
| 致谢 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-76页 |
