| 摘要 | 第5-7页 |
| ABSTRACT | 第7-8页 |
| 第一章 绪论 | 第12-30页 |
| 1.1 引言 | 第12-13页 |
| 1.2 磁性薄膜中的磁各向异性 | 第13-18页 |
| 1.2.1 磁晶各向异性 | 第13-14页 |
| 1.2.2 感生磁各向异性和表面磁各向异性 | 第14-15页 |
| 1.2.3 退磁场和形状磁各向异性 | 第15-18页 |
| 1.3 稀土金属 | 第18-20页 |
| 1.3.1 稀土金属磁性 | 第18页 |
| 1.3.2 磁性过渡金属及其合金 | 第18-19页 |
| 1.3.3 磁性过渡-稀土合金材料的研究现状 | 第19-20页 |
| 1.4 磁化动力学过程 | 第20-26页 |
| 1.4.1 磁化动力学过程 | 第20-21页 |
| 1.4.2 Landau-Lifshitz-Gilbert(LLG)方程 | 第21-22页 |
| 1.4.3 自旋泵浦效应 | 第22-26页 |
| 1.5 本论文的主要研究内容 | 第26-27页 |
| 参考文献 | 第27-30页 |
| 第二章 薄膜的制备和表征方法 | 第30-46页 |
| 2.1 磁控溅射 | 第30-32页 |
| 2.2 X射线衍射仪测试(XRD) | 第32-34页 |
| 2.3 扫描电子显微镜以及X射线能谱 | 第34-36页 |
| 2.4 振动样品磁强计 | 第36-38页 |
| 2.5 铁磁共振 | 第38-44页 |
| 2.5.1 非均匀线宽 | 第41-42页 |
| 2.5.2 双磁子散射 | 第42-44页 |
| 参考文献 | 第44-46页 |
| 第三章 铁磁/非磁双层薄膜的自旋泵浦效应 | 第46-68页 |
| 3.1 引言 | 第46页 |
| 3.2 Ta/NiFe/Nd/Ta薄膜的自旋泵浦效应 | 第46-58页 |
| 3.2.1 薄膜的制备和结构、磁性表征 | 第47-49页 |
| 3.2.2 Ta/NiFe/Nd/Ta薄膜的铁磁共振共振场的角度依赖性 | 第49-53页 |
| 3.2.3 Ta/NiFe/Nd/Ta薄膜的铁磁共振线宽的角度依赖性 | 第53-55页 |
| 3.2.4 Ta/NiFe/Nd/Ta薄膜的铁磁共振线宽的频率依赖性 | 第55-58页 |
| 3.3 Ta/NiFe/Pt/Ta薄膜的自旋泵浦效应 | 第58-64页 |
| 3.3.1 Ta/NiFe/Pt/Ta薄膜的制备与磁性表征 | 第58-59页 |
| 3.3.2 Ta/NiFe/Pt/Ta薄膜的铁磁共振角度依赖性 | 第59-63页 |
| 3.3.3 Ta/NiFe/Pt/Ta薄膜的铁磁共振线宽的频率依赖性 | 第63-64页 |
| 本章总结 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-68页 |
| 第四章 稀土Nd掺杂调控非磁薄膜的自旋轨道耦合 | 第68-80页 |
| 4.1 引言 | 第68页 |
| 4.2 NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x双层薄膜的制备和结构表征 | 第68-70页 |
| 4.2.1 NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x双层薄膜的制备流程 | 第69-70页 |
| 4.2.2 NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x双层薄膜的结构表征 | 第70页 |
| 4.3 Ta/NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x/Ta薄膜的基本磁性究 | 第70-74页 |
| 4.3.1 Ta/NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x/Ta薄膜的磁性随掺杂浓度的变化 | 第70-72页 |
| 4.3.2 不同Cu_(1-x)-Nd_x层厚度对Ta/NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x/Ta薄膜磁性影响 | 第72-74页 |
| 4.4 Ta/NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x/Ta薄膜的变频铁磁共振研究 | 第74-77页 |
| 4.4.1 Ta/NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x/Ta薄膜共振线宽的频率依赖性 | 第74-75页 |
| 4.4.2 Ta/NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x/Ta薄膜的磁化动力因子 | 第75-76页 |
| 4.4.3 Ta/NiFe/Cu_(1-x)-Nd_x/Ta薄膜自旋泵浦效应 | 第76-77页 |
| 本章总结 | 第77-78页 |
| 参考文献 | 第78-80页 |
| 展望 | 第80-81页 |
| 硕士期间研究成果 | 第81-82页 |
| 致谢 | 第82页 |
