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基于负电容效应的SBT铁电栅场效应晶体管物理模型

摘要第4-5页
ABSTRACT第5-6页
第1章 绪论第9-30页
    1.1 铁电体及铁电薄膜材料第9-16页
        1.1.1 铁电体第9-13页
        1.1.2 铁电薄膜材料第13-16页
    1.2 铁电场效应晶体管第16-20页
        1.2.1 铁电场效应晶体管的基本结构第16-17页
        1.2.2 铁电场效应晶体管的原理第17-18页
        1.2.3 铁电场效应晶体管存在的问题第18-20页
    1.3 铁电场效应晶体管的应用第20-28页
        1.3.1 基于FeFET的FeCMOS第20-21页
        1.3.2 非易失性存储器第21-28页
    1.4 本论文的研究意义和主要内容第28-30页
        1.4.1 本论文的研究意义第28页
        1.4.2 本论文的主要内容第28-30页
第2章 温度对负电容SBT铁电场效应晶体管电学性能的影响第30-42页
    2.1 引言第30-31页
    2.2 铁电薄膜负电容第31-34页
        2.2.1 负电容的定义第31-32页
        2.2.2 检验负电容存在的方法第32-34页
    2.3 SBT-MFS-NC-FET物理模型的建立第34-37页
        2.3.1 SBT-MFS-NC-FET物理模型第34-36页
        2.3.2 模型参数的确定第36-37页
    2.4 温度对SBT-MFS-NC-FET电学性能的影响第37-41页
        2.4.1 温度对硅表面势的影响第37-38页
        2.4.2 温度对栅电容的影响第38-39页
        2.4.3 温度对转移特性的影响第39-41页
    2.5 本章小结第41-42页
第3章 掺杂浓度对负电容SBT铁电场效应晶体管电学性能的影响第42-49页
    3.1 引言第42页
    3.2 SBT-MFS-NC-FET物理模型建立第42-44页
        3.2.1 SBT-MFS-NC-FET物理模型第42-43页
        3.2.2 模型参数的确定第43-44页
    3.3 掺杂浓度对SBT-MFS-NC-FET电学性能的影响第44-48页
        3.3.1 掺杂浓度对硅表面势的影响第44-46页
        3.3.2 掺杂浓度对栅电容的影响第46-47页
        3.3.3 掺杂浓度对转移特性的影响第47-48页
    3.4 本章小结第48-49页
第4章 铁电层厚度对负电容SBT铁电场效应晶体管电学性能的影响第49-55页
    4.1 引言第49页
    4.2 SBT -MFS-NC-FET物理模型的建立第49-51页
        4.2.1 SBT-MFS-NC-FET物理模型第49-50页
        4.2.2 模型参数的确定第50-51页
    4.3 铁电层厚度对SBT-MFS-NC-FET电学性能的影响第51-54页
        4.3.1 铁电层厚度对硅表面势的影响第51-52页
        4.3.2 铁电层厚度对栅电容的影响第52-53页
        4.3.3 铁电层厚度对转移特性的影响第53-54页
    4.4 本章小结第54-55页
第5章 界面层效应对负电容SBT场效应晶体管的电学性能的影响第55-64页
    5.1 引言第55-56页
    5.2 铁电-金属电极界面层模型第56-57页
    5.3 铁电-金属电极界面层SBT-MFS-NC-FET物理模型第57-58页
        5.3.1 模型的建立第57-58页
        5.3.2 模型参数的确定第58页
    5.4 界面效应对SBT-MFS-NC-FET电学性能的影响第58-63页
        5.4.1 界面效应对硅表面势的影响第58-60页
        5.4.2 界面效应对栅电容的影响第60-61页
        5.4.3 界面效应对转移特性的影响第61-63页
    5.5 本章小结第63-64页
第6章 总结与展望第64-66页
    6.1 论文总结第64-65页
    6.2 工作展望第65-66页
参考文献第66-72页
致谢第72-73页
个人简历、攻读硕士学位期间论文发表情况第73页

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