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芯片补强固定光热双固化封装材料的研制

摘要第3-4页
abstract第4-5页
1 文献综述第8-22页
    1.1 前言第8-9页
    1.2 芯片补强固定光热双固化封装材料的概述第9-20页
        1.2.1 光固化封装材料的应用领域及发展趋势第9-10页
        1.2.2 光热双固化封装材料的组成及其进展第10-14页
        1.2.3 光热双固化封装制备方法及其固化方式第14-15页
        1.2.4 光热双固化封装材料的固化机理第15-17页
        1.2.5 光热双固化封装材料的国内外研究现状第17-20页
    1.3 本课题的研究目的及意义第20页
    1.4 本课题的研究内容第20-21页
    1.5 本课题的创新点第21-22页
2 实验部分第22-28页
    2.1 实验原料及实验仪器第22-23页
    2.2 实验流程第23-24页
    2.3 测试或表征第24-28页
        2.3.1 表干性测试第24页
        2.3.2 差式扫描量热法的测定第24-25页
        2.3.3 凝胶化时间的测定第25页
        2.3.4 红外表征第25页
        2.3.5 剪切强度的测定第25页
        2.3.6 介电常数的测定第25-26页
        2.3.7 粘度的测定第26页
        2.3.8 热机械性能分析第26页
        2.3.9 动态热机械性能分析第26页
        2.3.10 吸湿率的测定第26页
        2.3.11 热失重分析第26页
        2.3.12 高低温交变循环测试第26-27页
        2.3.13 高低温交变湿热循环测试第27-28页
3 芯片补强固定封装材料固化工艺制度的确定第28-40页
    3.1 树脂配比对胶层表干性能的影响第28-29页
    3.2 光热双固化工艺制度的研究第29-37页
        3.2.1 光引发剂用量对光固化所需能量的影响第29-30页
        3.2.2 热固化剂用量对热固化温度的影响第30-37页
    3.3 芯片补强固定光热双固化封装材料红外表征第37-38页
    3.4 小结第38-40页
4 芯片补强固定封装材料使用性能的研究第40-52页
    4.1 填料对封装材料强度及介电性的影响第40-42页
        4.1.1 填料用量对封装材料剪切强度及介电性能的影响第40-42页
        4.1.2 填料对封装材料硬度的影响第42页
    4.2 填料对封装材料粘度的影响第42-45页
        4.2.1 硅微粉对封装材料粘度的影响第42-43页
        4.2.2 白炭黑对封装材料的粘度的影响第43-44页
        4.2.3 不同剪切速率下测试对封装材料粘度的影响第44-45页
    4.3 填料用量对封装材料膨胀系数的影响第45-47页
    4.4 填料用量对封装材料模量的影响第47-51页
    4.5 小结第51-52页
5 芯片补强固定封装材料稳定性的研究第52-59页
    5.1 芯片补强固定封装材料吸湿性的研究第52-53页
    5.2 芯片补强固定封装材料热稳定性的研究第53-55页
    5.3 芯片补强固定封装材料耐候性的研究第55-57页
    5.4 芯片补强固定封装材料的综合性能第57-58页
    5.5 小结第58-59页
6 结论与展望第59-61页
    6.1 结论第59页
    6.2 展望第59-61页
致谢第61-62页
参考文献第62-67页
附录第67页

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