首页--工业技术论文--无线电电子学、电信技术论文--微电子学、集成电路(IC)论文--印刷电路论文

挠性印制电路半加成电镀铜技术的研究

摘要第5-7页
abstract第7-8页
第一章 绪论第11-25页
    1.1 挠性印制电路板概述第11-14页
        1.1.1 概念及特点第11-12页
        1.1.2 制作工艺简介第12-13页
        1.1.3 挠性电路板的发展第13-14页
    1.2 酸性电镀铜技术概述第14-23页
        1.2.1 酸性镀铜在印制电路板制造中的应用第14-16页
        1.2.2 酸性电镀铜中有机添加剂的影响第16-19页
        1.2.3 通孔内外溶液交换速率的影响第19-21页
        1.2.4 酸铜电镀阳极的影响第21-23页
        1.2.5 挠性板电镀铜技术研究进展第23页
    1.3 选题意义及内容第23-25页
        1.3.1 选题意义第23-24页
        1.3.2 选题内容第24-25页
第二章 挠性印制电路板通孔电镀技术研究第25-42页
    2.1 前言第25-26页
    2.2 实验第26-29页
        2.2.1 实验仪器及材料第26-27页
        2.2.2 实验方法第27-29页
    2.3 实验结果第29-40页
        2.3.1 挠性电镀铜抑制剂的筛选第29-30页
        2.3.2 VMS酸铜配比对均镀能力的影响第30-31页
        2.3.3 电镀条件对电镀铜的影响第31-34页
        2.3.4 电镀液配方优化实验第34-36页
        2.3.5 电镀性能对比研究第36-40页
    2.4 本章小结第40-42页
第三章 复合功能光亮剂的合成与性能研究第42-52页
    3.1 前言第42页
    3.2 实验第42-45页
        3.2.1 实验仪器第42-43页
        3.2.2 实验材料及镀液成分第43-44页
        3.2.3 光亮剂的合成步骤及流程第44页
        3.2.4 电化学性能表征实验第44-45页
        3.2.5 电镀实验第45页
    3.3 实验结果与讨论第45-50页
        3.3.1 光亮剂的合成机理第45-47页
        3.3.2 光亮剂的红外表征第47页
        3.3.3 光亮剂的电化学性能研究第47-49页
        3.3.4 光亮剂的电镀性能研究第49-50页
    3.4 本章小结第50-52页
第四章 电镀用磷铜阳极电分解的研究第52-70页
    4.1 前言第52-53页
    4.2 实验第53-54页
        4.2.1 实验材料及仪器第53页
        4.2.2 实验方法第53-54页
    4.3 实验结果与讨论第54-68页
        4.3.1 阳极泥形貌分析第54-55页
        4.3.2 阳极泥EDS分析第55页
        4.3.3 阳极泥XPS分析第55-61页
        4.3.4 阳极泥XRD分析第61-62页
        4.3.5 阳极膜生长过程的电化学性能第62-65页
        4.3.6 阳极成膜机理研究第65-68页
    4.4 本章小结第68-70页
第五章 结论与展望第70-72页
    5.1 结论第70-71页
    5.2 展望第71-72页
致谢第72-73页
参考文献第73-78页
攻读硕士学位期间取得的研究成果第78页

论文共78页,点击 下载论文
上一篇:片上网络接口可靠性设计研究
下一篇:印制电路高速传输线路设计与制作的信号完整性研究