| 摘要 | 第5-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 符号对照表 | 第11-12页 |
| 缩略语对照表 | 第12-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-23页 |
| 1.1 Mach-Zehnder激光干涉法项目背景 | 第15-16页 |
| 1.2 等离子体的研究 | 第16-18页 |
| 1.2.1 等离子体的产生 | 第16页 |
| 1.2.2 等离子体特性及其参数 | 第16-17页 |
| 1.2.3 等离子体的折射率 | 第17页 |
| 1.2.4 干涉条纹与折射率的关系 | 第17-18页 |
| 1.3 测量电爆过程中等离子体浓度发展状况 | 第18页 |
| 1.4 Mach-Zehnder激光干涉仪概要 | 第18-20页 |
| 1.5 Mach-Zehnder干涉仪系统控制软件 | 第20-21页 |
| 1.6 本文主要工作 | 第21-23页 |
| 第二章 光学系统控制软件的开发与研究 | 第23-43页 |
| 2.1 PHC系列USB2.0 CMOS工业相机的特点和参数 | 第23-25页 |
| 2.1.1 PHC系列USB2.0 CMOS工业相机特色 | 第23-24页 |
| 2.1.2 PHC系列USB2.0 CMOS工业相机参数表 | 第24-25页 |
| 2.2 光学系统控制软件的开发语言及开发平台 | 第25-27页 |
| 2.2.1 c | 第25-26页 |
| 2.2.2 Visual Studio 2005 | 第26-27页 |
| 2.3 光学系统控制软件的特点和功能 | 第27-35页 |
| 2.3.1 光学系统控制软件的特点 | 第27-28页 |
| 2.3.2 光学系统控制软件系统基本操作 | 第28-35页 |
| 2.4 光学系统控制软件软件的架构 | 第35-42页 |
| 2.4.1 DVP_SDK简介 | 第36页 |
| 2.4.2 相机工作流程图 | 第36-42页 |
| 2.5 本章小结 | 第42-43页 |
| 第三章 同步控制系统软件的开发与研究 | 第43-51页 |
| 3.1 同步控制的要点 | 第43-44页 |
| 3.2 同步控制系统软件的核心 | 第44-48页 |
| 3.2.1 外触发模式 | 第44-45页 |
| 3.2.2 相机反相工作机制 | 第45-48页 |
| 3.3 同步控制系统的主要界面 | 第48-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 图像处理软件的开发与研究 | 第51-67页 |
| 4.1 图像处理算法的研究 | 第51-63页 |
| 4.1.1 图像初步去噪与滤波处理 | 第51-53页 |
| 4.1.2 条纹的细化处理 | 第53-55页 |
| 4.1.3 爆炸区范围的定位计算 | 第55-58页 |
| 4.1.4 等离子体浓度计算 | 第58-63页 |
| 4.2 图像处理软件的开发框架及界面 | 第63-66页 |
| 4.3 本章小结 | 第66-67页 |
| 第五章 软件测试及仪器测试效果分析 | 第67-85页 |
| 5.1 软件测试的概要 | 第67-68页 |
| 5.2 Mach-Zehnder干涉仪系统控制软件测试 | 第68-84页 |
| 5.2.1 单元测试 | 第68-72页 |
| 5.2.2 集成测试 | 第72-74页 |
| 5.2.3 仪器测试效果评估 | 第74-84页 |
| 5.3 本章小结 | 第84-85页 |
| 第六章 总结与展望 | 第85-87页 |
| 参考文献 | 第87-89页 |
| 致谢 | 第89-91页 |
| 作者简介 | 第91-92页 |
