Ga2O3薄膜的制备及特性研究
| 摘要 | 第5-7页 |
| Abstract | 第7-8页 |
| 符号表 | 第10-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-23页 |
| §1.1 概述 | 第11页 |
| §1.2 氧化镓材料的性质 | 第11-14页 |
| §1.3 氧化镓材料的研究进展 | 第14-19页 |
| 1.3.1 氧化镓材料的应用 | 第14-15页 |
| 1.3.2 氧化镓材料的制备 | 第15-19页 |
| §1.4 研究课题的选取 | 第19-21页 |
| 参考文献 | 第21-23页 |
| 第二章 样品的制备及测试 | 第23-35页 |
| §2.1 氧化镓薄膜的制备 | 第23-29页 |
| 2.1.1 射频磁控溅射系统 | 第23-25页 |
| 2.1.2 溅射的基本原理 | 第25-28页 |
| 2.1.3 氧化镓靶的制备 | 第28-29页 |
| 2.1.4 氧化镓薄膜的制备 | 第29页 |
| §2.2 测试方法介绍 | 第29-34页 |
| 2.2.1 结构和成分测试分析 | 第29-31页 |
| 2.2.2 表面形貌的观测 | 第31-32页 |
| 2.2.3 光学性质的测量 | 第32-34页 |
| 参考文献 | 第34-35页 |
| 第三章 氧化镓薄膜的结构和光学特性 | 第35-52页 |
| §3.1 氧化镓薄膜的结构特性 | 第35-45页 |
| 3.1.1 X-射线衍射(XRD) | 第35-39页 |
| 3.1.2 X-射线光电子能谱(XPS) | 第39-41页 |
| 3.1.3 原子力显微镜(AFM) | 第41-43页 |
| 3.1.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第43-45页 |
| §3.2 氧化镓薄膜的光学特性 | 第45-51页 |
| 3.2.1 氧化镓薄膜的透射谱研究 | 第45-46页 |
| 3.2.2 吸收系数和光学带隙 | 第46-48页 |
| 3.2.3 傅立叶红外吸收光谱 | 第48-51页 |
| 参考文献 | 第51-52页 |
| 第四章 结论 | 第52-54页 |
| §4.1 氧化镓薄膜的制备及测试 | 第52页 |
| §4.2 氧化镓薄膜的特性 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 学位论文评阅及答辩情况表 | 第55页 |
