摘要 | 第4-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第1章 绪论 | 第11-27页 |
1.1 引言 | 第11-12页 |
1.2 吸波材料简介 | 第12-17页 |
1.2.1 吸波原理简介 | 第12-14页 |
1.2.2 电磁参数的调控 | 第14-16页 |
1.2.3 吸波材料种类 | 第16-17页 |
1.3 片状铁磁金属粉末国内外研究现状 | 第17-21页 |
1.4 介电层包覆铁磁金属粉末国内外研究现状 | 第21-24页 |
1.5 多层吸波涂层设计国内外研究现状 | 第24-26页 |
1.6 主要研究内容 | 第26-27页 |
第2章 试验材料及实验方法 | 第27-30页 |
2.1 试验材料与试剂 | 第27页 |
2.2 试验方法 | 第27-28页 |
2.2.1 片状钴粉的球磨制备 | 第27页 |
2.2.2 球磨钴粉的氢热处理 | 第27页 |
2.2.3 Co@SiO_2复合颗粒的制备 | 第27-28页 |
2.3 结构表征与性能测试 | 第28页 |
2.4 吸波性能评价及多层吸波涂层设计方法 | 第28-30页 |
第3章 片状Co粉体制备、氢热处理及电磁性能 | 第30-47页 |
3.1 引言 | 第30页 |
3.2 球磨过程对产物组织形貌及电磁性能的影响 | 第30-42页 |
3.2.1 球磨时间对组织形貌的影响 | 第30-32页 |
3.2.2 过程控制剂添加量对组织形貌的影响 | 第32-34页 |
3.2.3 片状Co的静态磁性能 | 第34-35页 |
3.2.4 片状Co的电磁性能 | 第35-38页 |
3.2.5 片状Co的微波性能 | 第38-42页 |
3.3 氢热处理对产物组织形貌及电磁性能的影响 | 第42-45页 |
3.3.1 氢热处理对片状Co粉体组织形貌的影响 | 第42-43页 |
3.3.2 氢热处理对片状Co粉体静态磁性能影响 | 第43-44页 |
3.3.3 氢热处理对片状Co粉体电磁性能影响 | 第44页 |
3.3.4 氢热处理对片状Co粉体吸波性能影响 | 第44-45页 |
3.4 本章小结 | 第45-47页 |
第4章 Co@SiO_2复合粉体制备及电磁性能 | 第47-67页 |
4.1 引言 | 第47页 |
4.2 单次SiO_2包覆工艺探索 | 第47-53页 |
4.2.1 不同醇水比对SiO_2包覆含量的影响 | 第48-49页 |
4.2.2 不同氨水用量对Si O2包覆含量的影响 | 第49-50页 |
4.2.3 不同TEOS用量对SiO_2包覆含量的影响 | 第50-51页 |
4.2.4 不同粉末装载量对SiO_2包覆含量的影响 | 第51-52页 |
4.2.5 不同粉体表面处理对SiO_2包覆含量的影响 | 第52-53页 |
4.3 SiO_2的多次包覆 | 第53-57页 |
4.3.1 球形Co粉体的多次SiO_2包覆及包覆均匀性 | 第54-55页 |
4.3.2 球磨Co粉体的多次SiO_2包覆及包覆均匀性 | 第55-57页 |
4.4 Co@SiO_2复合颗粒高温抗氧化性 | 第57-58页 |
4.5 Co@SiO_2复合颗粒的电磁性能 | 第58-63页 |
4.5.1 SiO_2壳层含量对球形Co粉体电磁性能影响 | 第58-59页 |
4.5.2 SiO_2壳层含量对球磨Co粉体电磁性能影响 | 第59-63页 |
4.6 Co@SiO_2复合颗粒的吸波性能 | 第63-65页 |
4.6.1 SiO_2壳层含量对球形Co粉体吸波性能影响 | 第63-64页 |
4.6.2 SiO_2壳层含量对球磨Co粉体吸波性能影响 | 第64-65页 |
4.7 本章小结 | 第65-67页 |
第5章 基于遗传算法的多层涂层设计 | 第67-80页 |
5.1 引言 | 第67页 |
5.2 多层涂层的吸波性能评价与遗传算法的优化流程 | 第67-69页 |
5.3 基于Co和FeSi体系材料参数的多层涂层设计 | 第69-79页 |
5.3.1 基础的电磁参数数据库 | 第69-71页 |
5.3.2 多层涂层的宽频优化设计 | 第71-76页 |
5.3.3 多层涂层的靶向频段设计 | 第76-78页 |
5.3.4 多层涂层的电磁波入射角度依赖性 | 第78-79页 |
5.4 本章小结 | 第79-80页 |
结论 | 第80-81页 |
参考文献 | 第81-86页 |
攻读硕士学位期间发表的论文及其他成果 | 第86-88页 |
致谢 | 第88页 |