电解自修锐弹性磨抛工具系统开发与实验研究
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-8页 |
| 第1章 绪论 | 第12-22页 |
| 1.1 课题来源 | 第12页 |
| 1.2 研究背景及意义 | 第12-13页 |
| 1.3 国内外相关技术发展及研究现状 | 第13-20页 |
| 1.3.1 碳化硅陶瓷材料超精密加工方法 | 第13-16页 |
| 1.3.2 ELID磨削技术 | 第16-18页 |
| 1.3.3 电化学砂带磨削技术 | 第18-20页 |
| 1.4 本文主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 电解自修锐弹性磨抛理论研究 | 第22-34页 |
| 2.1 电解反应发生原理 | 第22-23页 |
| 2.2 电解自修锐弹性磨抛加工 | 第23-26页 |
| 2.2.1 电解自修锐弹性磨抛原理 | 第23-24页 |
| 2.2.2 金属钝化膜的形成 | 第24-26页 |
| 2.2.3 磨抛去除速度 | 第26页 |
| 2.3 磨抛质量主要影响因素及参数选择 | 第26-31页 |
| 2.4 提高磨抛效率有效途径 | 第31-33页 |
| 2.5 本章小结 | 第33-34页 |
| 第3章 电解自修锐弹性磨抛工具系统开发 | 第34-48页 |
| 3.1 电解自修锐弹性磨抛机床总体结构 | 第34-35页 |
| 3.2 电解自修锐弹性磨抛工具系统 | 第35-45页 |
| 3.2.1 主轴电机 | 第35-37页 |
| 3.2.2 电机驱动器 | 第37-39页 |
| 3.2.3 压力传感器 | 第39-41页 |
| 3.2.4 工具系统结构设计 | 第41-42页 |
| 3.2.5 电解电源 | 第42-44页 |
| 3.2.6 电源控制柜系统配置 | 第44-45页 |
| 3.3 磨抛工具系统总体控制方案 | 第45-46页 |
| 3.4 本章小结 | 第46-48页 |
| 第4章 电解自修锐弹性磨抛工具头制备 | 第48-68页 |
| 4.1 电解自修锐弹性磨抛工具头性能要求 | 第48-49页 |
| 4.2 电解自修锐弹性磨抛工具头制备过程 | 第49-58页 |
| 4.2.1 聚合物电解质结合剂 | 第49-52页 |
| 4.2.2 主要试剂与材料选择 | 第52-54页 |
| 4.2.3 主要实验仪器 | 第54页 |
| 4.2.4 材料配比正交试验方案 | 第54-56页 |
| 4.2.5 磨抛工具头试件制备方法 | 第56-58页 |
| 4.3 电解自修锐弹性磨抛工具头性能分析 | 第58-66页 |
| 4.3.1 材料配比正交试验结果 | 第58-62页 |
| 4.3.2 磨抛工具头试件表面形貌分析 | 第62-66页 |
| 4.4 本章小结 | 第66-68页 |
| 第5章 电解自修锐弹性磨抛工具头实验研究 | 第68-84页 |
| 5.1 实验条件与实验装置 | 第68-69页 |
| 5.2 磨抛实验方案 | 第69-75页 |
| 5.2.1 正交试验方案 | 第69-70页 |
| 5.2.2 正交试验结果 | 第70-75页 |
| 5.3 磨抛工具头加工质量影响因素分析 | 第75-81页 |
| 5.3.1 磨抛工具头试件磨抛对比实验分析 | 第75-79页 |
| 5.3.2 主要制备成分对加工质量影响分析 | 第79-81页 |
| 5.4 本章小结 | 第81-84页 |
| 第6章 结论与展望 | 第84-86页 |
| 参考文献 | 第86-92页 |
| 攻读学位期间主要科研成果及奖励 | 第92-94页 |
| 致谢 | 第94页 |
