| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第9-19页 |
| 1.1 课题背景及研究的目的和意义 | 第9-10页 |
| 1.2 倍频晶体温控技术研究进展 | 第10-17页 |
| 1.2.1 小口径倍频晶体温控技术及相关热分析 | 第10-13页 |
| 1.2.2 大口径倍频晶体温控技术及其特点 | 第13-17页 |
| 1.3 本文的主要研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 大口径倍频晶体温度的计算与温控方案设计 | 第19-35页 |
| 2.1 传热过程分析及控制方程 | 第19-23页 |
| 2.2 流-固-热耦合模型的建立及求解 | 第23-27页 |
| 2.3 晶体温控方案设计 | 第27-34页 |
| 2.3.1 常压条件下晶体温控方案设计 | 第27-33页 |
| 2.3.2 真空条件下晶体温控方案设计 | 第33页 |
| 2.3.3 结果分析与对比 | 第33-34页 |
| 2.4 本章小结 | 第34-35页 |
| 第3章 真空条件下晶体温度分布特性研究 | 第35-47页 |
| 3.1 模型求解及数值误差分析 | 第35-38页 |
| 3.1.1 边界条件分析 | 第35-36页 |
| 3.1.2 湍流模型的选择及控制方程的求解 | 第36页 |
| 3.1.3 数值结果的误差估计 | 第36-38页 |
| 3.2 晶体框内水流速度对晶体温度分布的影响规律 | 第38-41页 |
| 3.3 晶体框内水流温度对晶体温度分布的影响规律 | 第41-43页 |
| 3.4 晶体口径对晶体温度分布的影响规律 | 第43-44页 |
| 3.5 测温平台的搭建与实验结果分析 | 第44-46页 |
| 3.5.1 测温平台的搭建 | 第45-46页 |
| 3.5.2 真空条件下实验结果分析与对比 | 第46页 |
| 3.6 本章小结 | 第46-47页 |
| 第4章 常压条件下晶体温度分布特性研究 | 第47-63页 |
| 4.1 边界条件分析及模型求解 | 第47-48页 |
| 4.2 腔体壁面热性能对晶体温度分布的影响规律 | 第48-56页 |
| 4.2.1 外壁面对流传热系数对晶体温度分布的影响规律 | 第48-52页 |
| 4.2.2 壁面内水流速度对晶体温度分布的影响规律 | 第52-53页 |
| 4.2.3 壁面内水流温度对晶体温度分布的影响规律 | 第53-54页 |
| 4.2.4 水道排布密度对晶体温度分布的影响规律 | 第54-56页 |
| 4.3 晶体框内水流速度对晶体温度分布的影响规律 | 第56-57页 |
| 4.4 常压条件下实验结果分析与对比 | 第57-62页 |
| 4.5 本章小结 | 第62-63页 |
| 结论 | 第63-65页 |
| 参考文献 | 第65-70页 |
| 攻读硕士学位期间发表的论文及其它成果 | 第70-72页 |
| 致谢 | 第72页 |
