中文摘要 | 第7-10页 |
英文摘要 | 第10-13页 |
第一章 绪论 | 第14-40页 |
1.1 扫描隧道显微镜 | 第14-16页 |
1.1.1 扫描隧道显微镜的基本原理 | 第14-15页 |
1.1.2 扫描隧道显微镜的工作模式 | 第15-16页 |
1.2 扫描探针显微镜 | 第16-26页 |
1.2.1 扫描探针显微镜的基本原理 | 第16-18页 |
1.2.2 针尖样品之间作用力 | 第18-19页 |
1.2.3 扫描探针显微镜基本模式 | 第19-21页 |
1.2.4 扫描探针显微镜与其他微观表征手段的技术对比 | 第21-22页 |
1.2.5 位相成像模式 | 第22-25页 |
1.2.6 锁相放大技术 | 第25-26页 |
1.3 铌酸锂晶体概述 | 第26-32页 |
1.3.1 铌酸锂晶体的物理性质 | 第26-28页 |
1.3.2 铌酸锂晶体的制备 | 第28-29页 |
1.3.3 铌酸锂晶体的应用与研究现状 | 第29-32页 |
1.4 本论文特色与创新之处 | 第32-33页 |
1.5 内容安排 | 第33-34页 |
1.6 本章小结 | 第34-35页 |
参考文献 | 第35-40页 |
第二章 反馈参数对于压电力显微镜成像的影响 | 第40-56页 |
2.1 压电力显微镜成像中的反馈参数 | 第40-41页 |
2.2 实验方法 | 第41-42页 |
2.3 反馈参数对于PFM成像的影响 | 第42-52页 |
2.3.1 驱动频率对于压电成像衬度的影响 | 第42-43页 |
2.3.2 驱动位相对于压电成像衬度的影响 | 第43-44页 |
2.3.3 驱动振幅对于压电成像的影响与压电系数的测量 | 第44-47页 |
2.3.4 Setpoint值对于压电成像的影响 | 第47-48页 |
2.3.5 扫频方法采集压电位相信息及振动分析 | 第48-51页 |
2.3.6 PFM成像中信号关系的矢量图表示 | 第51-52页 |
2.4 本章小结 | 第52-53页 |
参考文献 | 第53-56页 |
第三章 探针极性扫描诱导畴区的生长和弛豫特性 | 第56-68页 |
3.1 引言 | 第56-57页 |
3.2 实验方法 | 第57-58页 |
3.3 压电力显微镜高频位相谱 | 第58-64页 |
3.3.1 高频下反向畴区的位相对比 | 第58-59页 |
3.3.2 反向畴区表面的位相频谱 | 第59-61页 |
3.3.3 高频下的压电位相差的共振频移 | 第61-62页 |
3.3.4 高频下的共振频移的压电相关性 | 第62-64页 |
3.4 本章小结 | 第64-65页 |
参考文献 | 第65-68页 |
第四章 Lithography技术及其铁电材料应用 | 第68-80页 |
4.1 纳米材料制备技术简介 | 第68-69页 |
4.2 基于扫描探针的lithography技术 | 第69页 |
4.3 Lithography技术的铁电材料应用 | 第69-73页 |
4.4 光电晶体中畴区结构的扫描探针极化 | 第73-76页 |
4.4.1 实验样品与方法 | 第73页 |
4.4.2 扫描探针极化周期畴区结构 | 第73-75页 |
4.4.3 扫描探针极化中存在的问题 | 第75-76页 |
4.5 本章小结 | 第76-77页 |
参考文献 | 第77-80页 |
第五章 SPM极化点状畴区的生长动力学过程 | 第80-90页 |
5.1 引言 | 第80-81页 |
5.2 高压极化点状畴区的生长动力学理论 | 第81-84页 |
5.3 SPM极化点状畴区的生长过程 | 第84-87页 |
5.4 本章小结 | 第87-88页 |
参考文献 | 第88-90页 |
第六章 铌酸锂晶体中畴区的无序生长 | 第90-104页 |
6.1 引言 | 第90页 |
6.2 畴区系统中无序状态相关理论 | 第90-96页 |
6.2.1 系统中两种典型的无序状态 | 第91-93页 |
6.2.2 无序状态下畴壁运动与平衡态的畴壁状态 | 第93-96页 |
6.3 铌酸锂晶体中极化条状畴区的无序作用分析 | 第96-100页 |
6.3.1 实验方法 | 第96-97页 |
6.3.2 条状畴区中的无序作用 | 第97-100页 |
6.4 本章小结 | 第100-101页 |
参考文献 | 第101-104页 |
第七章 扫描极化下条状畴区的生长和弛豫特性 | 第104-114页 |
7.1 引言 | 第104页 |
7.2 畴区弛豫动力学理论 | 第104-106页 |
7.3 扫描极化条状畴区的生长弛豫特性 | 第106-110页 |
7.3.1 实验方法 | 第106-107页 |
7.3.2 条状畴区的生长特性 | 第107-108页 |
7.3.3 最小稳定畴区尺寸与晶体厚度的关系 | 第108-109页 |
7.3.4 条状畴区的弛豫特性 | 第109-110页 |
7.4 本章小结 | 第110-112页 |
参考文献 | 第112-114页 |
第八章 扫描极化面状畴区的生长特性 | 第114-122页 |
8.1 引言 | 第114-115页 |
8.2 实验方法 | 第115页 |
8.3 扫描极化诱导畴区的生长特性 | 第115-120页 |
8.4 本章小结 | 第120-121页 |
参考文献 | 第121-122页 |
第九章 工作总结与研究展望 | 第122-126页 |
9.1 工作总结 | 第122-124页 |
9.1.1 PFM成像中反馈参数影响与高频位相成像研究总结 | 第122-123页 |
9.1.2 点状、条状、面状畴区极化动力学研究总结 | 第123-124页 |
9.2 研究展望 | 第124-126页 |
攻读博士期间发表和待发表论文 | 第126-128页 |
致谢 | 第128-130页 |