高质量光学级金刚石膜的制备与研究
摘要 | 第1-6页 |
Abstract | 第6-10页 |
第1章 文献综述 | 第10-16页 |
·金刚石的结构 | 第10-11页 |
·金刚石的特性 | 第11-12页 |
·CVD 金刚石的研究现状 | 第12-14页 |
·论文研究的目的和意义 | 第14-16页 |
第2章 光学级金刚石膜的合成方法及表征 | 第16-32页 |
·CVD 法沉积金刚石的机理 | 第16-18页 |
·光学级金刚石 CVD 的合成方法 | 第18-27页 |
·热丝 CVD 法 | 第18-20页 |
·直流等离子体喷射 CVD 法 | 第20-21页 |
·微波等离子体 CVD 法 | 第21-23页 |
·MPCVD 法装置结构与原理 | 第23-26页 |
·本实验 MPCVD 装置介绍 | 第26-27页 |
·金刚石膜的表征方法 | 第27-30页 |
·光学显微镜 | 第27-28页 |
·激光拉曼光谱 | 第28页 |
·X 射线衍射法 | 第28-29页 |
·扫描电子显微镜 | 第29页 |
·红外光谱 | 第29-30页 |
·光学级金刚石膜的研究进展及展望 | 第30-32页 |
第3章 高质量金刚石膜生长过程中环境的影响 | 第32-46页 |
·形核温度对金刚石膜质量的影响 | 第32-38页 |
·形核温度对金刚石膜形核形貌的影响 | 第34-35页 |
·形核温度对金刚石膜生长质量的影响 | 第35-38页 |
·生长温度对金刚石膜的影响 | 第38-41页 |
·生长过程中碳源浓度对金刚石膜质量的影响 | 第41-44页 |
·本章小结 | 第44-46页 |
第4章 氧气浓度对高质量金刚石膜制备的影响 | 第46-58页 |
·氧气浓度对金刚石生长的影响 | 第46-52页 |
·氧气浓度对金刚石膜表面形貌的影响 | 第47-48页 |
·氧气浓度对金刚石膜质量及生长速率的影响 | 第48-51页 |
·氧气浓度对金刚石晶体取向的影响 | 第51-52页 |
·优化工艺参数下光学级金刚石膜的制备 | 第52-56页 |
·本章小结 | 第56-58页 |
第5章 全文总结与展望 | 第58-62页 |
·全文总结 | 第58-59页 |
·论文展望 | 第59-62页 |
参考文献 | 第62-70页 |
攻读硕士期间已发表的论文 | 第70-72页 |
致谢 | 第72页 |