高质量光学级金刚石膜的制备与研究

摘要	第1-6页
Abstract	第6-10页
第1章 文献综述	第10-16页
·金刚石的结构	第10-11页
·金刚石的特性	第11-12页
·CVD 金刚石的研究现状	第12-14页
·论文研究的目的和意义	第14-16页
第2章 光学级金刚石膜的合成方法及表征	第16-32页
·CVD 法沉积金刚石的机理	第16-18页
·光学级金刚石 CVD 的合成方法	第18-27页
·热丝 CVD 法	第18-20页
·直流等离子体喷射 CVD 法	第20-21页
·微波等离子体 CVD 法	第21-23页
·MPCVD 法装置结构与原理	第23-26页
·本实验 MPCVD 装置介绍	第26-27页
·金刚石膜的表征方法	第27-30页
·光学显微镜	第27-28页
·激光拉曼光谱	第28页
·X 射线衍射法	第28-29页
·扫描电子显微镜	第29页
·红外光谱	第29-30页
·光学级金刚石膜的研究进展及展望	第30-32页
第3章 高质量金刚石膜生长过程中环境的影响	第32-46页
·形核温度对金刚石膜质量的影响	第32-38页
·形核温度对金刚石膜形核形貌的影响	第34-35页
·形核温度对金刚石膜生长质量的影响	第35-38页
·生长温度对金刚石膜的影响	第38-41页
·生长过程中碳源浓度对金刚石膜质量的影响	第41-44页
·本章小结	第44-46页
第4章 氧气浓度对高质量金刚石膜制备的影响	第46-58页
·氧气浓度对金刚石生长的影响	第46-52页
·氧气浓度对金刚石膜表面形貌的影响	第47-48页
·氧气浓度对金刚石膜质量及生长速率的影响	第48-51页
·氧气浓度对金刚石晶体取向的影响	第51-52页
·优化工艺参数下光学级金刚石膜的制备	第52-56页
·本章小结	第56-58页
第5章 全文总结与展望	第58-62页
·全文总结	第58-59页
·论文展望	第59-62页
参考文献	第62-70页
攻读硕士期间已发表的论文	第70-72页
致谢	第72页