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高质量光学级金刚石膜的制备与研究

摘要第1-6页
Abstract第6-10页
第1章 文献综述第10-16页
   ·金刚石的结构第10-11页
   ·金刚石的特性第11-12页
   ·CVD 金刚石的研究现状第12-14页
   ·论文研究的目的和意义第14-16页
第2章 光学级金刚石膜的合成方法及表征第16-32页
   ·CVD 法沉积金刚石的机理第16-18页
   ·光学级金刚石 CVD 的合成方法第18-27页
     ·热丝 CVD 法第18-20页
     ·直流等离子体喷射 CVD 法第20-21页
     ·微波等离子体 CVD 法第21-23页
     ·MPCVD 法装置结构与原理第23-26页
     ·本实验 MPCVD 装置介绍第26-27页
   ·金刚石膜的表征方法第27-30页
     ·光学显微镜第27-28页
     ·激光拉曼光谱第28页
     ·X 射线衍射法第28-29页
     ·扫描电子显微镜第29页
     ·红外光谱第29-30页
   ·光学级金刚石膜的研究进展及展望第30-32页
第3章 高质量金刚石膜生长过程中环境的影响第32-46页
   ·形核温度对金刚石膜质量的影响第32-38页
     ·形核温度对金刚石膜形核形貌的影响第34-35页
     ·形核温度对金刚石膜生长质量的影响第35-38页
   ·生长温度对金刚石膜的影响第38-41页
   ·生长过程中碳源浓度对金刚石膜质量的影响第41-44页
   ·本章小结第44-46页
第4章 氧气浓度对高质量金刚石膜制备的影响第46-58页
   ·氧气浓度对金刚石生长的影响第46-52页
     ·氧气浓度对金刚石膜表面形貌的影响第47-48页
     ·氧气浓度对金刚石膜质量及生长速率的影响第48-51页
     ·氧气浓度对金刚石晶体取向的影响第51-52页
   ·优化工艺参数下光学级金刚石膜的制备第52-56页
   ·本章小结第56-58页
第5章 全文总结与展望第58-62页
   ·全文总结第58-59页
   ·论文展望第59-62页
参考文献第62-70页
攻读硕士期间已发表的论文第70-72页
致谢第72页

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