| 摘要 | 第1-7页 |
| Abstract | 第7-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-28页 |
| ·金刚石的结构与性能 | 第11-17页 |
| ·金刚石的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·金刚石的性能与应用 | 第12-17页 |
| ·CVD 金刚石制备方法 | 第17-23页 |
| ·物理气相沉积法（PVD） | 第18页 |
| ·化学气相输运法（CVT） | 第18页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第18-23页 |
| ·CVD 金刚石膜的特征条件及生长机理 | 第23-26页 |
| ·CVD 金刚石膜的特征条件 | 第23-24页 |
| ·CVD 金刚石膜的生长机理 | 第24-26页 |
| ·课题研究意义及内容 | 第26-28页 |
| ·课题研究意义 | 第26-27页 |
| ·本文研究内容 | 第27-28页 |
| 第2章 实验装置和表征方法 | 第28-38页 |
| ·MPCVD 沉积装置的主要类型 | 第28-31页 |
| ·本文实验 MPCVD 装置的结构及原理 | 第31-33页 |
| ·金刚石膜常用的表征方法 | 第33-38页 |
| ·光学显微镜 | 第33-34页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第34页 |
| ·原子力显微镜 | 第34-35页 |
| ·激光拉曼光谱 | 第35页 |
| ·X 射线衍射 | 第35-38页 |
| 第3章 工艺参数对 CVD 金刚石膜生长影响的研究 | 第38-54页 |
| ·基片温度对金刚石膜生长的影响 | 第38-42页 |
| ·碳源浓度对金刚石膜生长的影响 | 第42-46页 |
| ·基片温度与碳源浓度间耦合效应的规律 | 第46-48页 |
| ·微波功率和沉积气压对金刚石膜生长的影响 | 第48-51页 |
| ·本章小结 | 第51-54页 |
| 第4章 氮气对 CVD 金刚石膜生长影响的研究 | 第54-66页 |
| ·实验背景及本实验工艺参数 | 第54-55页 |
| ·氮气浓度对金刚石膜表面形貌和质量的影响 | 第55-61页 |
| ·氮气浓度对金刚石膜生长速率的影响 | 第61-63页 |
| ·氮气浓度对金刚石膜晶粒尺寸的影响 | 第63-65页 |
| ·本章小结 | 第65-66页 |
| 第5章 论文总结与展望 | 第66-68页 |
| 参考文献 | 第68-76页 |
| 硕士研究生期间发表的论文 | 第76-78页 |
| 致谢 | 第78页 |