MOCVD技术制备的BZO薄膜及其在太阳电池中的应用
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-8页 |
| 1 绪论 | 第8-13页 |
| ·引言 | 第8页 |
| ·ZnO概述 | 第8-10页 |
| ·ZnO-TCO的研究现状及其制备技术 | 第10-12页 |
| ·论文的主要内容和结构安排 | 第12-13页 |
| 2 实验方法和分析测试技术 | 第13-19页 |
| ·MOCVD设备系统组成及原理 | 第13-14页 |
| ·实验设备及反应原理 | 第14-16页 |
| ·ZnO薄膜的表征 | 第16-19页 |
| 3 MOCVD沉积ZnO-TCO薄膜 | 第19-36页 |
| ·引言 | 第19页 |
| ·衬底温度对ZnO薄膜特性的影响 | 第19-24页 |
| ·反应压力对ZnO薄膜特性的影响 | 第24-28页 |
| ·物质配比对ZnO薄膜特性的影响 | 第28-32页 |
| ·厚度对ZnO薄膜特性的影响 | 第32-36页 |
| 4 BZO的制备及其在电池中的应用 | 第36-51页 |
| ·背极BZO的制备及其特性分析 | 第36-43页 |
| ·前极BZO的制备及其特性分析 | 第43-47页 |
| ·BZO在Si薄膜太阳电池中的应用 | 第47-51页 |
| 5 总结 | 第51-53页 |
| 致谢 | 第53-54页 |
| 参考文献 | 第54-58页 |
| 附录1 攻读硕士学位期间发表的论文 | 第58-59页 |
| 附录2 攻读硕士学位期间申请的专利 | 第59页 |