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La1-xSrxCoO3陶瓷、薄膜的制备及薄膜的横向热电效应研究

摘要第1-5页
Abstract第5-7页
目录第7-10页
第一章 La_(1-x)Sr_xCoO_3材料和横向热电效应简介第10-29页
   ·La_(1-x)Sr_xCoO_3材料体系概述第10-18页
     ·晶体结构和相图第10-12页
     ·输运性质第12-16页
     ·热电性质第16-18页
   ·横向热电效应简介第18-23页
     ·热电效应第18-20页
     ·横向热电效应的基本原理第20-23页
   ·横向热电效应的研究现状第23-27页
     ·材料体系第23-25页
     ·器件应用研究第25-27页
   ·本论文的意义和主要研究内容第27-29页
     ·研究的意义第27-28页
     ·研究的主要内容第28-29页
第二章 实验方法和原理第29-38页
   ·固相反应法制备陶瓷简介第29-30页
   ·脉冲激光淀积制备薄膜概述第30-35页
     ·脉冲激光淀积的基本原理第31-32页
     ·脉冲激光淀积系统第32-34页
     ·脉冲激光淀积技术的特点第34-35页
   ·材料的表征和性能测试以及横向热电电压信号测量第35-38页
     ·材料的表征和性能测试第35-37页
     ·横向热电信号的测量第37-38页
第三章 La_(1-x)Sr_xCoO_3(0≤x≤1)陶瓷的制备第38-51页
   ·固相反应制备陶瓷工艺探索第38-40页
   ·La_(1-x)Sr_xCoO_3陶瓷的晶体结构第40-43页
   ·La_(1-x)Sr_xCoO_3陶瓷的电输运性质第43-46页
   ·SR含量对La_(1-x)Sr_xCoO_3陶瓷微结构的影响第46-50页
   ·本章小结第50-51页
第四章 平直和倾斜单晶衬底上La_(1-x)Sr_xCoO_3(0.05≤x≤0.5)薄膜的生长和表征第51-65页
   ·PLD制备薄膜工艺探索第51-55页
     ·衬底的选择第51-54页
     ·淀积氧压的选择第54-55页
   ·薄膜厚度的近似测量第55-56页
   ·平直衬底上薄膜的表征第56-57页
   ·倾斜衬底上薄膜的外延表征第57-63页
     ·XRD测量方法第57-58页
     ·倾斜La_(1-x)Sr_xCoO_3薄膜的外延特性第58-63页
   ·本章小结第63-65页
第五章 倾斜La_(1-x)Sr_xCoO_3(0.05≤x≤0.5)薄膜的横向热电效应第65-78页
   ·信号产生机制讨论第65-68页
   ·SR含量对La_(1-x)Sr_xCoO_3薄膜信号峰值的影响第68-73页
   ·电阻率对信号响应速度的调制第73-77页
   ·本章小结第77-78页
第六章 结论与展望第78-80页
   ·论文的主要研究工作和结论第78-79页
   ·论文工作的主要创新点第79页
   ·未来展望第79-80页
致谢第80-81页
参考文献第81-89页
附录 攻读硕士学位期间发表的论文及获奖第89页

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