多孔硅的制备及发光机理的研究
| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-9页 |
| 第1章 引言 | 第9-14页 |
| ·硅材料 | 第9页 |
| ·多孔硅材料 | 第9页 |
| ·多孔硅的发展史 | 第9-10页 |
| ·多孔硅的应用及发展前景 | 第10-11页 |
| ·多孔硅的研究意义 | 第11-12页 |
| ·本论文的研究目标和主要内容 | 第12页 |
| ·本章小结 | 第12-14页 |
| 第2章 多孔硅的研究现状 | 第14-21页 |
| ·多孔硅的制备方法 | 第14-17页 |
| ·电化学腐蚀法(又称阳极腐蚀法) | 第14-16页 |
| ·光化学腐蚀法 | 第16页 |
| ·化学腐蚀法 | 第16页 |
| ·水热腐蚀法 | 第16页 |
| ·脉冲腐蚀法 | 第16-17页 |
| ·多孔硅的形成机理 | 第17页 |
| ·多孔硅的微观结构 | 第17页 |
| ·多孔硅的发光机理 | 第17-18页 |
| ·多孔硅的后处理 | 第18-19页 |
| ·表面氧化处理 | 第18页 |
| ·钝化处理 | 第18-19页 |
| ·本文采用的两种简单后处理方法 | 第19页 |
| ·本章小结 | 第19-21页 |
| 第3章 实验器材及光谱测试 | 第21-25页 |
| ·实验原料 | 第21页 |
| ·实验装置 | 第21-22页 |
| ·硅片的清洗 | 第22-23页 |
| ·光谱测试 | 第23-24页 |
| ·本章小结 | 第24-25页 |
| 第4章 发光强度高且发光稳定的多孔硅制备 | 第25-42页 |
| ·发光强度较高的多孔硅的制备 | 第25-31页 |
| ·腐蚀时间对多孔硅发光特性的影响 | 第25-27页 |
| ·腐蚀电流密度对多孔硅发光特性的影响 | 第27-30页 |
| ·自然氧化时间对多孔硅发光特性的影响 | 第30-31页 |
| ·发光稳定的多孔硅的制备 | 第31-36页 |
| ·阴极还原处理后的多孔硅 | 第31-33页 |
| ·酸处理后的多孔硅 | 第33-34页 |
| ·阴极还原后多孔硅的发光稳定性研究 | 第34-35页 |
| ·酸处理后多孔硅的稳定性的研究 | 第35-36页 |
| ·多孔硅表面均匀性的研究 | 第36-40页 |
| ·未处理多孔硅表面不同位置的发光情况 | 第36-37页 |
| ·阴极还原处理后多孔硅表面不同位置的发光情况 | 第37-38页 |
| ·酸处理后多孔硅表面不同位置的发光情况研究 | 第38-40页 |
| ·本章小结 | 第40-42页 |
| 第5章 多孔硅的发光及发光机理 | 第42-51页 |
| ·多孔硅的光致发光 | 第42页 |
| ·现今几种多孔硅的光致发光机理 | 第42-44页 |
| ·量子限制效应 | 第42-43页 |
| ·表面态模型 | 第43页 |
| ·量子限制效应/发光中心模型 | 第43页 |
| ·其他的多孔硅光致发光模型 | 第43-44页 |
| ·对多孔硅光致发光机理的探讨 | 第44-47页 |
| ·对量子限制效应的探讨 | 第44-46页 |
| ·对表面态的探讨 | 第46页 |
| ·对其他多孔硅光致发光模型的探讨 | 第46页 |
| ·对多孔硅光致发光机理的正确认识 | 第46-47页 |
| ·多孔硅的电致发光 | 第47-50页 |
| ·多孔硅的电致发光机理 | 第48页 |
| ·多孔硅电致发光方面的应用 | 第48-50页 |
| ·本章小结 | 第50-51页 |
| 第6章 结论与展望 | 第51-54页 |
| ·结论 | 第51-52页 |
| ·研究工作的展望 | 第52-54页 |
| 致谢 | 第54-55页 |
| 参考文献 | 第55-59页 |
| 攻读硕士学位期间的研究成果 | 第59页 |
