| 摘要 | 第1-4页 |
| ABSTRACT | 第4-5页 |
| 第一章 绪论 | 第5-12页 |
| ·引言 | 第5-6页 |
| ·CMOS图像传感器的优点和发展 | 第6-12页 |
| 第二章 CMOS图像传感器工作原理简介 | 第12-19页 |
| ·光电二极管简介 | 第12-13页 |
| ·CMOS图像传感器的发展 | 第13-17页 |
| ·CMOS图像传感器对生产工艺的要求以及本课题的方向 | 第17-19页 |
| 第三章 90纳米CIS浅沟槽隔离工艺优化 | 第19-29页 |
| ·STI工艺介绍 | 第19-24页 |
| ·STI沟槽顶角圆化的提出 | 第21-24页 |
| ·STI沟槽顶角圆化方法 | 第24-29页 |
| ·STI干法蚀刻工艺优化 | 第24-25页 |
| ·STI Linear Oxide Pre-clean工艺优化 | 第25-29页 |
| 第四章 90纳米CIS工艺层间介质层工艺优化 | 第29-37页 |
| ·层间介质层工艺介绍 | 第29-30页 |
| ·层间介质层工艺优化方法 | 第30-37页 |
| ·ILD CMP工艺优化 | 第31-33页 |
| ·ILD薄膜淀积工艺优化 | 第33-37页 |
| 第五章 总结和展望 | 第37-39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 致谢 | 第41-42页 |