| 摘要 | 第1-4页 |
| Abstract | 第4-6页 |
| 第一章 前言 | 第6-21页 |
| §1.1 垂直磁记录原理 | 第7-12页 |
| §1.1.1 垂直磁记录系统的主要构件 | 第7-8页 |
| §1.1.2 垂直磁记录写入和读出的原理 | 第8-10页 |
| §1.1.3 超高密度垂直磁记录介质所面临的三重困境 | 第10-12页 |
| §1.2 溅射成膜的机理 | 第12-21页 |
| §1.2.1 薄膜生长过程 | 第12-19页 |
| §1.2.2 磁控溅射各参数对成膜的影响 | 第19-21页 |
| 第二章 薄膜的制备及表征 | 第21-29页 |
| §2.1 薄膜的制备 | 第21-24页 |
| §2.1.1 磁控溅射的原理 | 第21-23页 |
| §2.1.2 本实验所用溅射系统性能 | 第23-24页 |
| §2.2 薄膜的表征 | 第24-29页 |
| §2.2.1 X射线衍射方法 | 第24-25页 |
| §2.2.2 原子力显微镜 | 第25-26页 |
| §2.2.3 振动样品磁强计 | 第26-27页 |
| §2.2.4 磁光克尔效应测磁性 | 第27-29页 |
| 第三章 Fe(002)织构的形成机理 | 第29-41页 |
| §3.1 Fe薄膜织构形成的两种机制 | 第29-31页 |
| §3.1.1 热平衡生长模式 | 第30-31页 |
| §3.1.2 非平衡模式 | 第31页 |
| §3.2 溅射条件对形成Fe(002)织构的影响 | 第31-35页 |
| §3.2.1 溅射功率对织构的影响 | 第31-34页 |
| §3.2.2 溅射气压的影响 | 第34页 |
| §3.2.3 基底温度的影响 | 第34-35页 |
| §3.2.4 结论 | 第35页 |
| §3.3 退火对Fe薄膜织构的影响 | 第35-39页 |
| §3.3.1 退火温度的影响 | 第36-38页 |
| §3.3.2 溅射条件对退火结果的影响 | 第38-39页 |
| §3.3.3 结论 | 第39页 |
| §3.3 小结 | 第39-41页 |
| 第四章 FePt/Fe双层结构 | 第41-51页 |
| §4.1 Fe(002)织构上外延FePt(001)织构 | 第41-44页 |
| §4.2 FePt/Fe之间的交换耦合 | 第44-49页 |
| §4.2.1 Fe厚度变化对外延生长的影响 | 第44-46页 |
| §4.2.2 改变Fe厚度对FePt/Fe磁性的影响 | 第46-49页 |
| §4.2.3 结论 | 第49页 |
| §4.3 小结 | 第49-51页 |
| 第五章 总结与展望 | 第51-53页 |
| 参考文献 | 第53-56页 |
| 硕士期间已发表论文 | 第56-57页 |
| 致谢 | 第57-58页 |
