| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第一章 绪论 | 第10-29页 |
| ·半导体光催化概述 | 第10-11页 |
| ·TiO_2 半导体光催化剂 | 第11-17页 |
| ·TiO_2 的晶体结构 | 第11-12页 |
| ·TiO_2 光催化氧化机理 | 第12-15页 |
| ·影响TiO_2 光催化性能的主要因素 | 第15-17页 |
| ·TiO_2 晶型的影响 | 第15-16页 |
| ·颗粒粒径的影响 | 第16页 |
| ·外在因素的影响 | 第16-17页 |
| ·TiO_2 的改性与可见光催化 | 第17-22页 |
| ·金属掺杂 | 第17-18页 |
| ·非金属掺杂 | 第18-20页 |
| ·复合半导体 | 第20-21页 |
| ·染料光敏化 | 第21-22页 |
| ·N 掺杂TiO_2 的研究进展 | 第22-27页 |
| ·N 掺杂TiO_2 的主要制备方法 | 第22-24页 |
| ·溅射法 | 第22-23页 |
| ·脉冲激光沉积 | 第23页 |
| ·气氛下灼烧法 | 第23页 |
| ·混合灼烧法 | 第23-24页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第24页 |
| ·机械化学法 | 第24页 |
| ·N 掺杂TiO_2 可见光催化的机理 | 第24-27页 |
| ·杂化能带减小理论 | 第24-25页 |
| ·杂质能级理论 | 第25-26页 |
| ·氧空缺理论 | 第26-27页 |
| ·课题研究内容与意义 | 第27-29页 |
| 第二章 实验部分 | 第29-35页 |
| ·主要实验药品及仪器 | 第29-30页 |
| ·主要实验药品 | 第29页 |
| ·主要实验仪器 | 第29-30页 |
| ·实验内容 | 第30-35页 |
| ·催化剂的制备 | 第30-31页 |
| ·催化剂的物理表征 | 第31-32页 |
| ·X-射线衍射（XRD） | 第31页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第31页 |
| ·示差扫描热量分析（DSC） | 第31-32页 |
| ·红外光谱分析（IR） | 第32页 |
| ·X-射线光电子能谱（XPS） | 第32页 |
| ·反应装置与催化剂的活性评价 | 第32-33页 |
| ·亚甲基蓝标准曲线 | 第33-34页 |
| ·对氯苯酚标准曲线 | 第34-35页 |
| 第三章 N掺杂TiO_2的光催化性能研究 | 第35-50页 |
| ·N 掺杂对TiO_2 光催化性能的影响 | 第35-40页 |
| ·N 掺杂对TiO_2 物理特性的影响 | 第35-37页 |
| ·XRD 表征 | 第35页 |
| ·DSC 表征 | 第35-36页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第36-37页 |
| ·XPS 表征 | 第37页 |
| ·N 掺杂对TiO_2 可见光活性的影响 | 第37-38页 |
| ·N 掺杂对TiO_2 紫外光性能的影响 | 第38-40页 |
| ·灼烧温度对N 掺杂TiO_2 性能的影响 | 第40-46页 |
| ·灼烧温度对N 掺杂TiO_2 物理特性的影响 | 第40-43页 |
| ·XRD 表征 | 第40-41页 |
| ·紫外-可见吸收光谱 | 第41-43页 |
| ·灼烧温度对N 掺杂TiO_2 可见光活性的影响 | 第43-45页 |
| ·N 掺杂TiO_2 可见光光催化的影响因素 | 第45-46页 |
| ·搅拌速度对N 掺杂TiO_2 可见光光催化反应的影响 | 第45-46页 |
| ·pH 值对N 掺杂TiO_2 可见光光催化反应的影响 | 第46页 |
| ·N 掺杂TiO_2 可见光光催化动力学研究 | 第46-49页 |
| ·本章小结 | 第49-50页 |
| 第四章 N掺杂TiO_2可见光催化机理研究 | 第50-57页 |
| ·引言 | 第50页 |
| ·N 原子进入TiO_2 晶格原理研究 | 第50-51页 |
| ·N 的存在形式研究 | 第51-53页 |
| ·N 掺杂 TiO_2 可见光催化的机理 | 第53-55页 |
| ·氧空缺研究 | 第55-56页 |
| ·本章小结 | 第56-57页 |
| 第五章 结论与建议 | 第57-58页 |
| 参考文献 | 第58-67页 |
| 致谢 | 第67-68页 |
| 发表文章目录 | 第68页 |