| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 目录 | 第6-8页 |
| 第一章 绪论 | 第8-20页 |
| ·研究背景 | 第8页 |
| ·TiO_2简介 | 第8-10页 |
| ·研究意义 | 第10-12页 |
| ·理论基础 | 第12-18页 |
| ·本论文研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 磁控溅射制备掺杂薄膜方法概述 | 第20-30页 |
| ·实验仪器和设备 | 第20-21页 |
| ·射频磁控溅射靶的制备 | 第21-24页 |
| ·基片清洗 | 第24页 |
| ·薄膜的制备 | 第24-28页 |
| ·薄膜的退火处理 | 第28页 |
| ·检测仪器 | 第28-30页 |
| 第三章 不同W掺杂含量 TiO_2薄膜的制备和研究 | 第30-44页 |
| ·W掺杂 TiO_2薄膜的制备和表征方法 | 第30页 |
| ·厚度分析 | 第30-31页 |
| ·AFM形貌分析 | 第31-32页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第32-35页 |
| ·UV-Vis吸收光谱分析 | 第35-37页 |
| ·光致亲水性分析 | 第37-40页 |
| ·热处理对W掺杂薄膜性能的影响 | 第40-43页 |
| ·小结 | 第43-44页 |
| 第四章 N和 W共掺杂 TiO_2薄膜的制备和研究 | 第44-55页 |
| ·共掺杂薄膜的制备 | 第44页 |
| ·薄膜厚度和 AFM形貌分析 | 第44-47页 |
| ·拉曼光谱分析 | 第47页 |
| ·UV-Vis吸收光谱 | 第47-49页 |
| ·XPS光谱分析 | 第49-53页 |
| ·光致亲水性分析 | 第53-54页 |
| ·小结 | 第54-55页 |
| 第五章 钒离子注入改进 Pilkington自洁玻璃的亲水性初探 | 第55-62页 |
| ·研究背景和研究目的 | 第55页 |
| ·制备工艺条件 | 第55-57页 |
| ·薄膜微观结构 | 第57-58页 |
| ·离子注入能量对光致亲水性的影响 | 第58-59页 |
| ·离子注入浓度对光致亲水性的影响 | 第59-60页 |
| ·不同退火温度对光致亲水性的影响 | 第60-61页 |
| ·小结 | 第61-62页 |
| 第六章 论文总结 | 第62-64页 |
| ·结论 | 第62-63页 |
| ·已做的探索和有待进行的工作 | 第63-64页 |
| 参考文献 | 第64-70页 |
| 硕士研究生期间发表的论文 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71页 |
