| 第一章 文献综述 | 第1-29页 |
| 第一节 纳米材料研究现状 | 第9-13页 |
| ·纳米材料的概念 | 第9页 |
| ·纳米材料的特殊性质 | 第9-10页 |
| ·纳米材料制备方法 | 第10-11页 |
| ·纳米材料的应用 | 第11-13页 |
| 第二节 纳米金属材料的表面修饰和功能化 | 第13-15页 |
| ·纳米金属材料 | 第13页 |
| ·纳米金属的表面修饰 | 第13-15页 |
| ·纳米金属的功能化及意义 | 第15页 |
| 第三节 有序电化学界面的构筑和意义 | 第15-24页 |
| ·有序单层(SAM) | 第16-17页 |
| ·有序多层 | 第17-22页 |
| ·有序电化学界面的分析应用 | 第22-24页 |
| 第四节 论文选题及意义 | 第24-25页 |
| 参考文献 | 第25-29页 |
| 第二章 功能化金纳米粒子有序多层膜的制备及电化学研究 | 第29-41页 |
| 1. 引言 | 第29-30页 |
| 2. 实验部分 | 第30-32页 |
| ·仪器与试剂 | 第30页 |
| ·表面功能化的金纳米粒子(GNC)的制备和有序多层膜的构筑 | 第30-32页 |
| ·表面功能化的金纳米粒子(GNC)的制备 | 第30-31页 |
| ·金纳米粒子有序多层膜的构筑 | 第31-32页 |
| 3. 结果与讨论 | 第32-39页 |
| ·GNC 形貌表征 | 第32-33页 |
| ·GNC/PDDA 有序薄膜的层层组装 | 第33-35页 |
| ·紫外-可见吸收光谱表征 | 第33-34页 |
| ·电化学表征 | 第34-35页 |
| ·GNC/PDDA 有序薄膜的电化学性质 | 第35-39页 |
| ·K_4Fe(CN)_6 在GNC/PDDA 多层膜上的渗透性 | 第35-36页 |
| ·金纳米粒子多层膜在不同扫速下的CV 图 | 第36-37页 |
| ·GNC 自组装多层膜的离子对效应 | 第37-39页 |
| ·GNC 有序薄膜的稳定性和重现性 | 第39页 |
| 4. 小结 | 第39-40页 |
| 参考文献 | 第40-41页 |
| 第三章 二茂铁功能化的金纳米粒子有序组装体作为抗坏血酸传感界面的研究 | 第41-57页 |
| 1. 引言 | 第41-43页 |
| 2. 实验部分 | 第43-44页 |
| ·仪器与试剂 | 第43页 |
| ·有序多层膜的构筑 | 第43-44页 |
| 3. 结果与讨论 | 第44-55页 |
| ·GNC 多层膜修饰电极的电化学行为 | 第44-46页 |
| ·GNC 多层膜电极对抗坏血酸的电催化氧化 | 第46-49页 |
| ·抗坏血酸在GNC 多层膜修饰电极上的电化学氧化 | 第46-47页 |
| ·支持电解质的选择 | 第47-48页 |
| ·扫速对膜电极电催化氧化的影响 | 第48-49页 |
| ·GNC 膜修饰电极的稳定性和重现性 | 第49页 |
| ·电分析应用 | 第49-55页 |
| ·最佳工作电位的选择 | 第49-50页 |
| ·工作曲线、检出限及精密度 | 第50-53页 |
| ·AA 对膜电极的扩散系数的测定 | 第53-55页 |
| 4. 小结 | 第55页 |
| 参考文献 | 第55-57页 |
| 第四章 金纳米粒子模板电沉积铜对葡萄糖氧化的电催化研究 | 第57-72页 |
| 1. 引言 | 第57页 |
| 2. 实验部分 | 第57-59页 |
| ·仪器与试剂 | 第57-58页 |
| ·金纳米模板的制备 | 第58-59页 |
| 3. 结果与讨论 | 第59-70页 |
| ·GNC 模板电极的电化学行为 | 第59-60页 |
| ·GNC 模板欠电位沉积(UPD)铜 | 第60-61页 |
| ·沉积电位的选择 | 第60-61页 |
| ·沉积时间的选择 | 第61页 |
| ·纳米铜/金薄膜的电化学行为 | 第61-62页 |
| ·纳米铜/金薄膜对葡萄糖氧化的电催化研究 | 第62-66页 |
| ·纳米铜/金薄膜对葡萄糖电催化氧化行为 | 第62-64页 |
| ·扫速的影响 | 第64-65页 |
| ·氢氧化钠底液最佳PH 的选择 | 第65-66页 |
| ·铜的沉积方法不同对葡萄糖电催化行为的影响 | 第66-70页 |
| ·纳米铜/金薄膜对葡萄糖电催化氧化行为 | 第66-68页 |
| ·纳米模板厚度对纳米铜/金薄膜的催化性质的影响 | 第68-70页 |
| ·纳米铜/金薄膜电极的稳定性 | 第70页 |
| 4. 小结 | 第70-71页 |
| 参考文献 | 第71-72页 |
| 第五章 纳米铜的电化学和电催化性能研究 | 第72-84页 |
| 1. 引言 | 第72-73页 |
| 2. 实验部分 | 第73-74页 |
| ·仪器与试剂 | 第73-74页 |
| ·铜纳米粒子的制备和修饰电极的制备 | 第74页 |
| 3. 结果与讨论 | 第74-82页 |
| ·PVP-CuNPs 的尺寸大小分析 | 第74-75页 |
| ·铜纳米修饰电极对葡萄糖的电催化作用 | 第75-78页 |
| ·葡萄糖在铜纳米修饰电极上的电化学行为 | 第75-77页 |
| ·最佳扫速的选择 | 第77-78页 |
| ·氢氧化钠底液最佳PH 的选择 | 第78页 |
| ·修饰电极稳定性的研究 | 第78-79页 |
| ·电分析应用 | 第79-82页 |
| ·最佳电位的选择 | 第79页 |
| ·线性范围、检出限和方法的可靠性 | 第79-82页 |
| 4. 小结 | 第82页 |
| 参考文献 | 第82-84页 |
| 中文摘要 | 第84-86页 |
| 英文摘要 | 第86-88页 |
| 附录 | 第88-91页 |
| 致谢 | 第88-89页 |
| 导师简介 | 第89-90页 |
| 作者简介 | 第90-91页 |
| 硕士期间论文发表情况 | 第91页 |
