| 中文摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 第1章 前言 | 第11-30页 |
| ·稀磁半导体概述 | 第11-19页 |
| ·稀磁半导体简介 | 第11-15页 |
| ·稀磁半导体中的交换作用 | 第15-17页 |
| ·稀磁半导体的光学、磁学和电学性能 | 第17-19页 |
| ·稀磁半导体的研究现状 | 第19-24页 |
| ·In_2O_3基DMS概述 | 第24-27页 |
| ·In_2O_3半导体的结构与基本特性 | 第24-25页 |
| ·In_2O_3基DMS的研究现状 | 第25-27页 |
| ·本文的选题依据和研究内容 | 第27-30页 |
| ·选题依据 | 第27-28页 |
| ·研究内容及创新性 | 第28-30页 |
| 第2章 试验部分 | 第30-39页 |
| ·制备方法介绍 | 第30-33页 |
| ·薄膜和粉体的制备方法概述 | 第30-32页 |
| ·溶胶凝胶法介绍 | 第32-33页 |
| ·主要化学试剂和仪器 | 第33-34页 |
| ·试验样品的制备 | 第34-35页 |
| ·前驱体溶胶的制备 | 第34页 |
| ·粉末样品制备 | 第34页 |
| ·衬底的清洗 | 第34-35页 |
| ·薄膜样品制备 | 第35页 |
| ·样品表征 | 第35-38页 |
| ·结构表征 | 第35-36页 |
| ·成分鉴定 | 第36-37页 |
| ·形貌表征 | 第37页 |
| ·磁学性能 | 第37-38页 |
| ·光学性能 | 第38页 |
| ·本章小结 | 第38-39页 |
| 第3章 Ni-In_2O_3纳米颗粒的结构和性能 | 第39-48页 |
| ·Ni掺杂量对(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)纳米粉体的结构与性能的影响 | 第39-47页 |
| ·(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)纳米粉体的结构分析 | 第39-41页 |
| ·(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)纳米粉体的形貌分析 | 第41-42页 |
| ·(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)纳米粉体的成分判定 | 第42-44页 |
| ·(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)纳米粉体的室温磁性能分析 | 第44-47页 |
| ·本章小结 | 第47-48页 |
| 第4章 Ni-In_2O_3薄膜的结构和性能 | 第48-59页 |
| ·(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)薄膜样品的结构与性能 | 第48-53页 |
| ·(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)薄膜样品的结构分析 | 第48-51页 |
| ·(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)薄膜样品的形貌分析 | 第51页 |
| ·(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)薄膜样品的室温磁性能分析 | 第51-52页 |
| ·(In_(1-x)Ni_x)_2O_(3-δ)薄膜样品的光性能分析 | 第52-53页 |
| ·退火温度对(In_(0.9)Ni_(0.1))_2O_(3-δ)样品结构和性能的影响 | 第53-57页 |
| ·(In_(0.9)Ni_(0.1))_2O_(3-δ)薄膜样品的结构分析 | 第53-55页 |
| ·(In_(0.9)Ni_(0.1))_2O_(3-δ)薄膜样品的形貌分析 | 第55-56页 |
| ·(In_(0.9)Ni_(0.1))_2O_(3-δ)薄膜样品的室温磁性能分析 | 第56页 |
| ·(In_(0.9)Ni_(0.1))_2O_(3-δ)薄膜样品的光性能分析 | 第56-57页 |
| ·本章小结 | 第57-59页 |
| 第5章 总结 | 第59-62页 |
| ·主要结论 | 第59-60页 |
| ·展望 | 第60-62页 |
| 致谢 | 第62-63页 |
| 参考文献 | 第63-69页 |
| 硕士期间发表的论文 | 第69页 |
