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化学浴沉积法制备硫化铜薄膜的研究

摘要第5-6页
Abstract第6-7页
第一章 绪论第11-23页
    1.1 CuS简介第11-16页
        1.1.1 硫化铜薄膜第11-12页
        1.1.2 CuS薄膜的光学性能及其应用第12页
        1.1.3 CuS薄膜的电学性能及其应用第12-13页
        1.1.4 CuS薄膜的其他性能及其应用第13页
        1.1.5 CuS薄膜的研究现状第13-16页
    1.2 化学浴沉积第16-20页
        1.2.1 化学浴沉积法(Chemical Bath Deposition)简介第16页
        1.2.2 化学浴沉积(CBD)特点第16-17页
        1.2.3 化学浴沉积的反应机理第17-18页
        1.2.4 化学浴沉积(CBD)的历史背景第18-20页
        1.2.5 化学浴沉积(CBD)制备硫族化合物薄膜的研究现状第20页
    1.3 研究内容和意义第20-23页
第二章实验部分第23-28页
    2.1 实验仪器与药品第23-24页
        2.1.1 实验仪器第23页
        2.1.2 实验药品第23-24页
    2.2 实验过程第24-26页
        2.2.1 衬底预处理第24-25页
        2.2.2 沉积液配制第25页
        2.2.3 薄膜沉积第25-26页
    2.3 薄膜样品的结构与性能表征第26-28页
        2.3.1 薄膜厚度测试第26页
        2.3.2 薄膜的晶体结构测定第26-27页
        2.3.3 薄膜的表面形貌表征第27页
        2.3.4 薄膜光学性能测定第27-28页
第三章 离子浓度对薄膜沉积的影响第28-45页
    3.1 溶液pH值对薄膜沉积的影响第28-31页
        3.1.1 pH值对CuS薄膜厚度的影响第28-30页
        3.1.2 pH对薄膜光学性能的影响第30-31页
    3.2 Cu~(2+)与C_6H_5O_7~(3-)比例对薄膜性能的影响第31-36页
        3.2.1 Cu~(2+)与Cu~(2+)与C_6H_5O_7~(3-)比例对薄膜厚度的影响第31-32页
        3.2.2 Cu~(2+)与Cu~(2+)与C_6H_5O_7~(3-)比例对薄膜结构影响第32-34页
        3.2.3 Cu~(2+)与Cu~(2+)与C_6H_5O_7~(3-)比例对薄膜光学性能的影响第34-36页
    3.3 Cu~(2+)与S~(2-)比例对薄膜的影响第36-39页
        3.3.1 Cu~(2+)与S~(2-)比例对薄膜厚度的影响第37页
        3.3.2 Cu~(2+)与S~(2-)比例对薄膜结构的影响第37-38页
        3.3.3 Cu~(2+)与S~(2-)比例对薄膜光学性能的影响第38-39页
    3.4 其他配比对薄膜的影响第39-40页
    3.5 溶液浓度对薄膜沉积的影响第40-43页
        3.5.1 溶液浓度对薄膜厚度的影响第41-42页
        3.5.2 薄膜表面形貌分析第42页
        3.5.3 溶液浓度对薄膜光学性能的影响第42-43页
    3.6 本章小结第43-45页
第四章 沉积温度和时间对薄膜沉积的影响第45-60页
    4.1 沉积温度对薄膜沉积的影响第45-49页
        4.1.1 沉积温度对薄膜厚度的影响第45-47页
        4.1.2 沉积温度对薄膜结构的影响第47页
        4.1.3 沉积温度对薄膜表面形貌的影响第47-48页
        4.1.4 沉积温度对薄膜光学性能的影响第48-49页
    4.2 沉积时间对薄膜沉积的影响第49-52页
        4.2.1 沉积时间对薄膜厚度的影响第50-51页
        4.2.2 沉积时间对薄膜表面形貌的影响第51-52页
        4.2.3 沉积时间对薄膜光学性能的影响第52页
    4.3 低温50℃下薄膜沉积状况的研究第52-56页
        4.3.1 溶液配比对薄膜沉积的影响第52-55页
        4.3.2 沉积时间对薄膜沉积的影响第55-56页
    4.4 本章小结第56-60页
第五章 结论与展望第60-62页
    5.1 结论第60页
    5.2 展望第60-62页
参考文献第62-64页
致谢第64-65页
作者简介及读研期间主要科研成果第65页

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