摘要 | 第5-6页 |
Abstract | 第6-7页 |
第一章 绪论 | 第11-23页 |
1.1 CuS简介 | 第11-16页 |
1.1.1 硫化铜薄膜 | 第11-12页 |
1.1.2 CuS薄膜的光学性能及其应用 | 第12页 |
1.1.3 CuS薄膜的电学性能及其应用 | 第12-13页 |
1.1.4 CuS薄膜的其他性能及其应用 | 第13页 |
1.1.5 CuS薄膜的研究现状 | 第13-16页 |
1.2 化学浴沉积 | 第16-20页 |
1.2.1 化学浴沉积法(Chemical Bath Deposition)简介 | 第16页 |
1.2.2 化学浴沉积(CBD)特点 | 第16-17页 |
1.2.3 化学浴沉积的反应机理 | 第17-18页 |
1.2.4 化学浴沉积(CBD)的历史背景 | 第18-20页 |
1.2.5 化学浴沉积(CBD)制备硫族化合物薄膜的研究现状 | 第20页 |
1.3 研究内容和意义 | 第20-23页 |
第二章实验部分 | 第23-28页 |
2.1 实验仪器与药品 | 第23-24页 |
2.1.1 实验仪器 | 第23页 |
2.1.2 实验药品 | 第23-24页 |
2.2 实验过程 | 第24-26页 |
2.2.1 衬底预处理 | 第24-25页 |
2.2.2 沉积液配制 | 第25页 |
2.2.3 薄膜沉积 | 第25-26页 |
2.3 薄膜样品的结构与性能表征 | 第26-28页 |
2.3.1 薄膜厚度测试 | 第26页 |
2.3.2 薄膜的晶体结构测定 | 第26-27页 |
2.3.3 薄膜的表面形貌表征 | 第27页 |
2.3.4 薄膜光学性能测定 | 第27-28页 |
第三章 离子浓度对薄膜沉积的影响 | 第28-45页 |
3.1 溶液pH值对薄膜沉积的影响 | 第28-31页 |
3.1.1 pH值对CuS薄膜厚度的影响 | 第28-30页 |
3.1.2 pH对薄膜光学性能的影响 | 第30-31页 |
3.2 Cu~(2+)与C_6H_5O_7~(3-)比例对薄膜性能的影响 | 第31-36页 |
3.2.1 Cu~(2+)与Cu~(2+)与C_6H_5O_7~(3-)比例对薄膜厚度的影响 | 第31-32页 |
3.2.2 Cu~(2+)与Cu~(2+)与C_6H_5O_7~(3-)比例对薄膜结构影响 | 第32-34页 |
3.2.3 Cu~(2+)与Cu~(2+)与C_6H_5O_7~(3-)比例对薄膜光学性能的影响 | 第34-36页 |
3.3 Cu~(2+)与S~(2-)比例对薄膜的影响 | 第36-39页 |
3.3.1 Cu~(2+)与S~(2-)比例对薄膜厚度的影响 | 第37页 |
3.3.2 Cu~(2+)与S~(2-)比例对薄膜结构的影响 | 第37-38页 |
3.3.3 Cu~(2+)与S~(2-)比例对薄膜光学性能的影响 | 第38-39页 |
3.4 其他配比对薄膜的影响 | 第39-40页 |
3.5 溶液浓度对薄膜沉积的影响 | 第40-43页 |
3.5.1 溶液浓度对薄膜厚度的影响 | 第41-42页 |
3.5.2 薄膜表面形貌分析 | 第42页 |
3.5.3 溶液浓度对薄膜光学性能的影响 | 第42-43页 |
3.6 本章小结 | 第43-45页 |
第四章 沉积温度和时间对薄膜沉积的影响 | 第45-60页 |
4.1 沉积温度对薄膜沉积的影响 | 第45-49页 |
4.1.1 沉积温度对薄膜厚度的影响 | 第45-47页 |
4.1.2 沉积温度对薄膜结构的影响 | 第47页 |
4.1.3 沉积温度对薄膜表面形貌的影响 | 第47-48页 |
4.1.4 沉积温度对薄膜光学性能的影响 | 第48-49页 |
4.2 沉积时间对薄膜沉积的影响 | 第49-52页 |
4.2.1 沉积时间对薄膜厚度的影响 | 第50-51页 |
4.2.2 沉积时间对薄膜表面形貌的影响 | 第51-52页 |
4.2.3 沉积时间对薄膜光学性能的影响 | 第52页 |
4.3 低温50℃下薄膜沉积状况的研究 | 第52-56页 |
4.3.1 溶液配比对薄膜沉积的影响 | 第52-55页 |
4.3.2 沉积时间对薄膜沉积的影响 | 第55-56页 |
4.4 本章小结 | 第56-60页 |
第五章 结论与展望 | 第60-62页 |
5.1 结论 | 第60页 |
5.2 展望 | 第60-62页 |
参考文献 | 第62-64页 |
致谢 | 第64-65页 |
作者简介及读研期间主要科研成果 | 第65页 |