| 摘要 | 第5-6页 |
| Abstract | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第10-20页 |
| 1.1 电致变色简介 | 第10-14页 |
| 1.1.1 电致变色材料的发展历程 | 第10-11页 |
| 1.1.2 电致变色材料的分类 | 第11-12页 |
| 1.1.3 电致变色器件 | 第12-14页 |
| 1.2 电致变色机理 | 第14-16页 |
| 1.2.1 Deb模型 | 第14页 |
| 1.2.2 电化学反应模型 | 第14页 |
| 1.2.3 双注入模型 | 第14-15页 |
| 1.2.4 小极化子模型 | 第15页 |
| 1.2.5 Drude-like自由电子散射模型 | 第15-16页 |
| 1.3 WO_3电致变色材料研究进展 | 第16-19页 |
| 1.3.1 WO_3的结构与基本的物理化学性质 | 第16页 |
| 1.3.2 WO_3薄膜的制备方法 | 第16页 |
| 1.3.3 WO_3薄膜的研究进展 | 第16-19页 |
| 1.4 课题的选题意义 | 第19-20页 |
| 第二章 实验内容 | 第20-24页 |
| 2.1 实验设备与材料 | 第20页 |
| 2.1.1 实验设备 | 第20页 |
| 2.1.2 实验材料 | 第20页 |
| 2.2 薄膜的结构与形貌分析 | 第20-22页 |
| 2.2.1 表面轮廓仪 | 第20-21页 |
| 2.2.2 拉曼光谱分析(Raman) | 第21页 |
| 2.2.3 X射线衍射分析(XRD) | 第21页 |
| 2.2.4 扫描电子显微镜(SEM) | 第21页 |
| 2.2.5 原子力显微镜(AFM) | 第21-22页 |
| 2.2.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第22页 |
| 2.3 电致变色性能测试 | 第22-24页 |
| 2.3.1 电化学测试工作站 | 第22-23页 |
| 2.3.2 透射光谱分析 | 第23-24页 |
| 第三章 WO_3薄膜的制备及其性能研究 | 第24-42页 |
| 3.1 薄膜厚度对结构、电致变色性能的影响 | 第24-33页 |
| 3.1.1 样品制备 | 第24页 |
| 3.1.2 XRD分析 | 第24-26页 |
| 3.1.3 AFM分析 | 第26-28页 |
| 3.1.4 薄膜的电致变色性能 | 第28-31页 |
| 3.1.5 XPS分析 | 第31-33页 |
| 3.1.6 小结 | 第33页 |
| 3.2 不同基片温度对氧化钨薄膜结构与性能影响 | 第33-42页 |
| 3.2.1 样品制备 | 第33-34页 |
| 3.2.2 XRD分析 | 第34-35页 |
| 3.2.3 拉曼光谱分析 | 第35页 |
| 3.2.4 表面形貌分析 | 第35-37页 |
| 3.2.5 薄膜的电致变色性能 | 第37-39页 |
| 3.2.6 小结 | 第39-42页 |
| 第四章 WO_3:Ti薄膜的制备及其性能研究 | 第42-58页 |
| 4.1 不同基片温度对WO_3:Ti薄膜结构与性能影响 | 第42-48页 |
| 4.1.1 样品制备 | 第42页 |
| 4.1.2 XRD分析 | 第42-43页 |
| 4.1.3 拉曼光谱分析 | 第43-44页 |
| 4.1.4 表面形貌分析 | 第44-46页 |
| 4.1.5 薄膜的电致变色性能 | 第46-47页 |
| 4.1.6 小结 | 第47-48页 |
| 4.2 不同氧气分压对WO_3:Ti薄膜结构性能影响 | 第48-58页 |
| 4.2.1 样品制备 | 第48页 |
| 4.2.2 XRD分析 | 第48-49页 |
| 4.2.3 拉曼光谱分析 | 第49-50页 |
| 4.2.4 表面形貌分析 | 第50-51页 |
| 4.2.5 薄膜的光学性能 | 第51-53页 |
| 4.2.6 薄膜的电致变色性能 | 第53-55页 |
| 4.2.7 小结 | 第55-58页 |
| 第五章 掺Ti对WO_3薄膜电致变色结构性能影响 | 第58-64页 |
| 5.1 样品制备 | 第58页 |
| 5.2 电致变色性能对比 | 第58-62页 |
| 5.3 电致变色结构对比 | 第62-63页 |
| 5.4 小结 | 第63-64页 |
| 第六章 结论 | 第64-66页 |
| 参考文献 | 第66-72页 |
| 攻读硕士学位期间取得的研究成果 | 第72-74页 |
| 致谢 | 第74页 |