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基于隧道谱技术探索非常规超导电子态相图

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
第一章 引言第14-32页
    1.1 隧道谱的研究背景第14-18页
        1.1.1 隧道谱的发展历程第14-16页
        1.1.2 扫描隧道显微镜/隧道谱在超导研究中的应用第16-18页
    1.2 唯一尖晶石氧化物超导体LiTi_2O_4的研究背景第18-20页
        1.2.1 晶体结构第19页
        1.2.2 能带结构第19-20页
        1.2.3 超导态性质第20页
        1.2.4 正常态性质第20页
    1.3 电子型铜氧化物研究背景第20-27页
        1.3.1 电子型铜氧化物与空穴型铜氧化物的异同点第21-23页
        1.3.2 配对对称性第23-24页
        1.3.3 双带起源第24-26页
        1.3.4 量子临界行为第26-27页
    1.4 高通量技术在超导研究中的应用第27-30页
        1.4.1 高通量技术的定义第27-28页
        1.4.2 高通量组合薄膜技术的发展历程第28页
        1.4.3 高通量技术在超导研究中的应用第28-30页
    1.5 本文主要结构第30-32页
第二章 隧道谱研究理论与实验基础第32-52页
    2.1 单粒子隧道效应第33-36页
    2.2 Andreev-Saint-James反射第36页
    2.3 Blonder-Tinkham-Klapwijk(BTK)理论第36-42页
        2.3.1 s-wave情形第36-40页
        2.3.2 d-wave情形第40-41页
        2.3.3 其它情形第41-42页
    2.4 隧道谱实验基础第42-52页
        2.4.1 隧道结的制备第42-44页
        2.4.2 点接触隧道谱测量杆设计第44-47页
        2.4.3 点接触隧道谱实验第47-48页
        2.4.4 隧道谱数据处理第48-52页
第三章 点接触隧道谱中的非本征效应第52-62页
    3.1 实验背景第52页
    3.2 临界电流效应理论模型第52-55页
        3.2.1 弹道隧穿NIS结第52-53页
        3.2.2 非弹道隧穿NIS结第53-54页
        3.2.3 NIS结串联SIS结第54-55页
    3.3 临界电流效应与本征隧道谱的区分第55-58页
        3.3.1 临界电流效应与Andreev反射第55-56页
        3.3.2 临界电流效应与多带超导体第56-57页
        3.3.3 临界电流效应与p波超导体第57页
        3.3.4 临界电流效应与d波超导体第57-58页
    3.4 其它非本征现象第58-60页
    3.5 本章小结第60-62页
第四章 尖晶石氧化物超导体LiTi204异常磁阻研究第62-76页
    4.1 研究背景第62页
    4.2 实验测量第62-64页
        4.2.1 样品制备与结构表征第62-63页
        4.2.2 样品测量第63-64页
    4.3 实验结果第64-69页
        4.3.1 R-T曲线第64-65页
        4.3.2 磁电阻第65-67页
        4.3.3 转角磁阻第67页
        4.3.4 点接触隧道谱第67-69页
    4.4 分析与讨论第69-74页
        4.4.1 LiTi_2O_4薄膜相关物理参量的计算第69-71页
        4.4.2 △~-B~2理论模型第71页
        4.4.3 各向异性正磁阻的起因第71-73页
        4.4.4 各向同性负磁阻的起因第73-74页
    4.5 本章小结第74-76页
第五章 尖晶石氧化物超导体LiTi_2O_4各向异性电声耦合研究第76-90页
    5.1 研究背景第76页
    5.2 实验测量第76-77页
        5.2.1 样品制备第76页
        5.2.2 样品测量第76-77页
    5.3 实验结果第77-81页
        5.3.1 变温隧道谱第77-78页
        5.3.2 变场隧道谱第78-79页
        5.3.3 BTK拟合第79-81页
    5.4 分析与讨论第81-88页
        5.4.1 玻色模起因第81-86页
        5.4.2 各向异性电声耦合起因第86-88页
    5.5 本章小结第88-90页
第六章 电子型铜氧化物母体超导Pr_2CuO_(4±δ)正常态能隙研究第90-102页
    6.1 研究背景第90-91页
    6.2 实验测量第91页
        6.2.1 样品制备第91页
        6.2.2 样品测量第91页
    6.3 实验结果第91-96页
        6.3.1 RT曲线第91-92页
        6.3.2 正常态能隙的测量第92-94页
        6.3.3 磁场对正常态能隙的影响第94-95页
        6.3.4 温度对正常态能隙的影响第95页
        6.3.5 结电阻对正常态能隙的影响第95-96页
    6.4 分析与讨论第96-100页
        6.4.1 BTK拟合第96-97页
        6.4.2 Altshuler-Aronov-Lee理论第97-99页
        6.4.3 实验结果的理解第99-100页
    6.5 本章小结第100-102页
第七章 组合激光分子束外延-扫描隧道显微镜联合系统的设计与搭建第102-116页
    7.1 仪器研发背景第102-103页
    7.2 Combi-LMBE-STM系统的设计第103-110页
        7.2.1 传样设计第104-106页
        7.2.2 LMBE单元第106-107页
        7.2.3 STM单元第107-108页
        7.2.4 其它模块设计第108-110页
    7.3 系统搭建第110-111页
    7.4 系统调试第111-115页
        7.4.1 传样调试第111页
        7.4.2 真空调试第111页
        7.4.3 振动调试第111-113页
        7.4.4 低温调试第113页
        7.4.5 扫图调试第113-115页
        7.4.6 长样调试第115页
    7.5 本章小结第115-116页
第八章 总结与展望第116-118页
附录A 点接触隧道谱测量电路原理第118-120页
参考文献第120-136页
个人简历第136-138页
发表文章目录第138-140页
致谢第140-141页

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