摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 引言 | 第14-32页 |
1.1 隧道谱的研究背景 | 第14-18页 |
1.1.1 隧道谱的发展历程 | 第14-16页 |
1.1.2 扫描隧道显微镜/隧道谱在超导研究中的应用 | 第16-18页 |
1.2 唯一尖晶石氧化物超导体LiTi_2O_4的研究背景 | 第18-20页 |
1.2.1 晶体结构 | 第19页 |
1.2.2 能带结构 | 第19-20页 |
1.2.3 超导态性质 | 第20页 |
1.2.4 正常态性质 | 第20页 |
1.3 电子型铜氧化物研究背景 | 第20-27页 |
1.3.1 电子型铜氧化物与空穴型铜氧化物的异同点 | 第21-23页 |
1.3.2 配对对称性 | 第23-24页 |
1.3.3 双带起源 | 第24-26页 |
1.3.4 量子临界行为 | 第26-27页 |
1.4 高通量技术在超导研究中的应用 | 第27-30页 |
1.4.1 高通量技术的定义 | 第27-28页 |
1.4.2 高通量组合薄膜技术的发展历程 | 第28页 |
1.4.3 高通量技术在超导研究中的应用 | 第28-30页 |
1.5 本文主要结构 | 第30-32页 |
第二章 隧道谱研究理论与实验基础 | 第32-52页 |
2.1 单粒子隧道效应 | 第33-36页 |
2.2 Andreev-Saint-James反射 | 第36页 |
2.3 Blonder-Tinkham-Klapwijk(BTK)理论 | 第36-42页 |
2.3.1 s-wave情形 | 第36-40页 |
2.3.2 d-wave情形 | 第40-41页 |
2.3.3 其它情形 | 第41-42页 |
2.4 隧道谱实验基础 | 第42-52页 |
2.4.1 隧道结的制备 | 第42-44页 |
2.4.2 点接触隧道谱测量杆设计 | 第44-47页 |
2.4.3 点接触隧道谱实验 | 第47-48页 |
2.4.4 隧道谱数据处理 | 第48-52页 |
第三章 点接触隧道谱中的非本征效应 | 第52-62页 |
3.1 实验背景 | 第52页 |
3.2 临界电流效应理论模型 | 第52-55页 |
3.2.1 弹道隧穿NIS结 | 第52-53页 |
3.2.2 非弹道隧穿NIS结 | 第53-54页 |
3.2.3 NIS结串联SIS结 | 第54-55页 |
3.3 临界电流效应与本征隧道谱的区分 | 第55-58页 |
3.3.1 临界电流效应与Andreev反射 | 第55-56页 |
3.3.2 临界电流效应与多带超导体 | 第56-57页 |
3.3.3 临界电流效应与p波超导体 | 第57页 |
3.3.4 临界电流效应与d波超导体 | 第57-58页 |
3.4 其它非本征现象 | 第58-60页 |
3.5 本章小结 | 第60-62页 |
第四章 尖晶石氧化物超导体LiTi204异常磁阻研究 | 第62-76页 |
4.1 研究背景 | 第62页 |
4.2 实验测量 | 第62-64页 |
4.2.1 样品制备与结构表征 | 第62-63页 |
4.2.2 样品测量 | 第63-64页 |
4.3 实验结果 | 第64-69页 |
4.3.1 R-T曲线 | 第64-65页 |
4.3.2 磁电阻 | 第65-67页 |
4.3.3 转角磁阻 | 第67页 |
4.3.4 点接触隧道谱 | 第67-69页 |
4.4 分析与讨论 | 第69-74页 |
4.4.1 LiTi_2O_4薄膜相关物理参量的计算 | 第69-71页 |
4.4.2 △~-B~2理论模型 | 第71页 |
4.4.3 各向异性正磁阻的起因 | 第71-73页 |
4.4.4 各向同性负磁阻的起因 | 第73-74页 |
4.5 本章小结 | 第74-76页 |
第五章 尖晶石氧化物超导体LiTi_2O_4各向异性电声耦合研究 | 第76-90页 |
5.1 研究背景 | 第76页 |
5.2 实验测量 | 第76-77页 |
5.2.1 样品制备 | 第76页 |
5.2.2 样品测量 | 第76-77页 |
5.3 实验结果 | 第77-81页 |
5.3.1 变温隧道谱 | 第77-78页 |
5.3.2 变场隧道谱 | 第78-79页 |
5.3.3 BTK拟合 | 第79-81页 |
5.4 分析与讨论 | 第81-88页 |
5.4.1 玻色模起因 | 第81-86页 |
5.4.2 各向异性电声耦合起因 | 第86-88页 |
5.5 本章小结 | 第88-90页 |
第六章 电子型铜氧化物母体超导Pr_2CuO_(4±δ)正常态能隙研究 | 第90-102页 |
6.1 研究背景 | 第90-91页 |
6.2 实验测量 | 第91页 |
6.2.1 样品制备 | 第91页 |
6.2.2 样品测量 | 第91页 |
6.3 实验结果 | 第91-96页 |
6.3.1 RT曲线 | 第91-92页 |
6.3.2 正常态能隙的测量 | 第92-94页 |
6.3.3 磁场对正常态能隙的影响 | 第94-95页 |
6.3.4 温度对正常态能隙的影响 | 第95页 |
6.3.5 结电阻对正常态能隙的影响 | 第95-96页 |
6.4 分析与讨论 | 第96-100页 |
6.4.1 BTK拟合 | 第96-97页 |
6.4.2 Altshuler-Aronov-Lee理论 | 第97-99页 |
6.4.3 实验结果的理解 | 第99-100页 |
6.5 本章小结 | 第100-102页 |
第七章 组合激光分子束外延-扫描隧道显微镜联合系统的设计与搭建 | 第102-116页 |
7.1 仪器研发背景 | 第102-103页 |
7.2 Combi-LMBE-STM系统的设计 | 第103-110页 |
7.2.1 传样设计 | 第104-106页 |
7.2.2 LMBE单元 | 第106-107页 |
7.2.3 STM单元 | 第107-108页 |
7.2.4 其它模块设计 | 第108-110页 |
7.3 系统搭建 | 第110-111页 |
7.4 系统调试 | 第111-115页 |
7.4.1 传样调试 | 第111页 |
7.4.2 真空调试 | 第111页 |
7.4.3 振动调试 | 第111-113页 |
7.4.4 低温调试 | 第113页 |
7.4.5 扫图调试 | 第113-115页 |
7.4.6 长样调试 | 第115页 |
7.5 本章小结 | 第115-116页 |
第八章 总结与展望 | 第116-118页 |
附录A 点接触隧道谱测量电路原理 | 第118-120页 |
参考文献 | 第120-136页 |
个人简历 | 第136-138页 |
发表文章目录 | 第138-140页 |
致谢 | 第140-141页 |