| 摘要 | 第8-9页 |
| Abstract | 第9-10页 |
| 第一章 绪论 | 第11-33页 |
| 1.1 多相催化与表面科学 | 第11-14页 |
| 1.2 CO加氢制甲醇反应 | 第14-16页 |
| 1.3 费托(F-T)合成反应 | 第16-19页 |
| 1.4 论文构思与目的 | 第19-20页 |
| 1.5 论文组成与概要 | 第20-21页 |
| 参考文献 | 第21-33页 |
| 第二章 实验部分 | 第33-41页 |
| 2.1 实验装置 | 第33-35页 |
| 2.2 低能离子散射谱 | 第35-36页 |
| 2.3 X-射线光电子能谱 | 第36-38页 |
| 2.4 实验方法 | 第38-39页 |
| 2.4.1 单晶表面的清洁 | 第38页 |
| 2.4.2 模型催化剂的制备 | 第38-39页 |
| 2.4.3 氧化物膜的表征 | 第39页 |
| 参考文献 | 第39-41页 |
| 第三章 Cu/ZnO/Al_2O_3模型催化剂的构筑和表征 | 第41-89页 |
| 3.1 前言 | 第41页 |
| 3.2 Cu/ZnO(0001)-Zn模型催化剂的构筑与表征 | 第41-56页 |
| 3.2.1 Cu/ZnO(0001)-Zn模型催化剂的制备 | 第41-42页 |
| 3.2.2 结果与讨论 | 第42-56页 |
| 3.3 Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn模型催化剂的构筑与表征 | 第56-60页 |
| 3.3.1 Al_2O_3膜在ZnO(0001)-Zn表面的生长模式 | 第56-57页 |
| 3.3.2 不同厚度的Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn膜的稳定性考察 | 第57-60页 |
| 3.4 Cu/A_2O_3/ZnO(0001)-Zn模型催化剂的构筑与表征 | 第60-79页 |
| 3.4.1 Cu/Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn模型催化剂的制备 | 第60-61页 |
| 3.4.2 Cu/Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn膜的生长模式 | 第61-62页 |
| 3.4.3 不同覆盖度的Cu/Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn的稳定性考察 | 第62-67页 |
| 3.4.4 不同覆盖度的Cu/Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn膜的氧化还原 | 第67-79页 |
| 3.5 Cu/Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn三元模型催化剂的构筑与表征 | 第79-85页 |
| 3.5.1 Cu/Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn三元模型催化剂的制备 | 第79页 |
| 3.5.2 Cu/Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn三元模型催化剂的生长 | 第79-80页 |
| 3.5.3 Cu/Al_2O_3/ZnO(0001)-Zn三元模型催化剂的氧化还原 | 第80-85页 |
| 3.6 本章小结 | 第85-86页 |
| 参考文献 | 第86-89页 |
| 第四章 Cr_2O_3/ZnO(0001)-Zn模型催化剂的构筑和表征 | 第89-99页 |
| 4.1 前言 | 第89页 |
| 4.2 实验部分 | 第89-90页 |
| 4.3 结果讨论 | 第90-97页 |
| 4.3.1 Cr_2O_3在ZnO(0001)-Zn上的生长模式 | 第90-91页 |
| 4.3.2 不同覆盖度的Cr_2O_3/ZnO(0001)-Zn的稳定性考察 | 第91-93页 |
| 4.3.3 不同厚度的Cr_2O_3/ZnO(0001)-Zn膜对其氧化还原的影响 | 第93-97页 |
| 4.4 小结 | 第97页 |
| 参考文献 | 第97-99页 |
| 第五章 结论 | 第99-101页 |
| 硕士期间发表论文目录 | 第101-103页 |
| 致谢 | 第103页 |
