| 中文摘要 | 第4-6页 |
| Abstract | 第6页 |
| 第一章 绪论 | 第12-31页 |
| 1.1 研究背景 | 第12-17页 |
| 1.1.1 金属(半导体)氧化物/水溶液界面处的双电层 | 第12-14页 |
| 1.1.2 pK_a在脱氢反应机理中的应用 | 第14-17页 |
| 1.2 研究现状 | 第17-22页 |
| 1.2.1 MUSIC模型计算pK_a | 第18-19页 |
| 1.2.2 基于DFTMD的限制势能计算pK_a | 第19-22页 |
| 1.3 本论文的研究工作 | 第22-25页 |
| 参考文献 | 第25-31页 |
| 第二章 理论基础与计算方法 | 第31-49页 |
| 2.1 引言 | 第31-32页 |
| 2.2 常用的几种计算化学方法 | 第32-35页 |
| 2.2.1 从头计算法(ab initio) | 第33-34页 |
| 2.2.2 半经验方法 | 第34页 |
| 2.2.3 密度泛函理论(Density Functional Theory) | 第34-35页 |
| 2.3 计算酸度常数的理论基础 | 第35-45页 |
| 2.3.1 电子转移质子耦合法 | 第36-38页 |
| 2.3.2 自由能微扰理论(FEP) | 第38-41页 |
| 2.3.4 质子溶剂化能酸度常数的计算 | 第41-44页 |
| 2.3.5 误差来源 | 第44-45页 |
| 参考文献 | 第45-49页 |
| 第三章 基于DFTMD计算酸度常数的方法发展 | 第49-65页 |
| 3.1 引言 | 第49页 |
| 3.2 基于DFTMD计算酸度常数方法发展现状 | 第49-54页 |
| 3.3 引入排斥势能计算酸度常数的方法发展 | 第54-61页 |
| 3.3.1 排斥势能的作用 | 第54-56页 |
| 3.3.2 排斥势能函数模拟 | 第56-61页 |
| 参考文献 | 第61-65页 |
| 第四章 计算酸度常数方法的应用 | 第65-87页 |
| 4.1 引言 | 第65-67页 |
| 4.2 溶液相H_2O、HS~-的应用 | 第67-70页 |
| 4.2.1 建模及参数设置 | 第67-69页 |
| 4.2.2 计算结果讨论与分析 | 第69-70页 |
| 4.3 金属氧化物SnO_2 (110) /H_2O界面酸度常数的计算 | 第70-82页 |
| 4.3.1 表面零电荷点(PZC)和表面水解离自由能 | 第70-72页 |
| 4.3.2 表面活性位点的酸度常数的计算 | 第72-74页 |
| 4.3.3 金红石结构SnO_2 (110)表面上水分子的解离 | 第74-76页 |
| 4.3.4 与限制势能计算结果的对比 | 第76-77页 |
| 4.3.5 与MUSIC模型的计算结果对比 | 第77-80页 |
| 4.3.6 SnO_2 (110)表面与金红石TiO_2 (110)表面的对比 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-87页 |
| 第五章 总结与展望 | 第87-90页 |
| 5.1 总结 | 第87-88页 |
| 5.2 展望 | 第88-90页 |
| 作者攻读硕士期间发表与交流的文章 | 第90-91页 |
| 致谢 | 第91页 |
