环保真空静电喷涂室设计与工艺分析
| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 目录 | 第8-11页 |
| CONTENTS | 第11-14页 |
| 第一章 绪论 | 第14-21页 |
| 1.1 涂装工艺的发展背景 | 第14-15页 |
| 1.1.1 国内外涂装工艺的发展现状 | 第14页 |
| 1.1.2 涂装工艺所面临的环境问题 | 第14-15页 |
| 1.2 真空涂装技术与设备的发展现状 | 第15-16页 |
| 1.3 真空静电涂装装备的研究意义 | 第16-17页 |
| 1.3.1 真空静电涂装的工艺特点 | 第16页 |
| 1.3.2 真空静电喷涂的发展前景 | 第16-17页 |
| 1.4 课题来源 | 第17页 |
| 1.5 真空静电喷涂装备总体概述 | 第17-19页 |
| 1.6 本文研究的主要内容 | 第19-21页 |
| 第二章 真空室的结构设计 | 第21-62页 |
| 2.1 真空室的主要指标和结构 | 第21-24页 |
| 2.1.1 真空室的主要指标 | 第22-23页 |
| 2.1.2 真空室的主要结构 | 第23-24页 |
| 2.2 真空室的缸体圆筒设计 | 第24-31页 |
| 2.2.1 缸体圆筒的稳定性计算 | 第25-27页 |
| 2.2.2 缸体圆筒图算法的设计与计算 | 第27-31页 |
| 2.3 真空室的顶部球缺封头设计 | 第31-34页 |
| 2.3.1 球缺封头的稳定性计算 | 第31-32页 |
| 2.3.2 球缺封头图算法的设计与计算 | 第32-34页 |
| 2.4 真空室的底部圆板封头设计 | 第34-39页 |
| 2.4.1 周边固定圆板 | 第34-36页 |
| 2.4.2 圆板上加强筋设计 | 第36-39页 |
| 2.5 真空室开孔及加固的设计 | 第39-46页 |
| 2.5.1 缸体圆筒和圆板封头开孔补强的设计 | 第40-41页 |
| 2.5.2 缸体圆筒和圆板封头的等面积补强设计 | 第41-46页 |
| 2.6 真空室的法兰密封设计 | 第46-51页 |
| 2.6.1 螺栓计算 | 第46-48页 |
| 2.6.2 外压法兰设计 | 第48-51页 |
| 2.7 真空室的门体设计 | 第51-58页 |
| 2.7.1 门体结构的设计原理 | 第52-55页 |
| 2.7.2 门体受力分析 | 第55-58页 |
| 2.8 真空缸体的有限元分析 | 第58-61页 |
| 2.8.1 真空缸体的应力与变形分析 | 第58-61页 |
| 2.9 本章小结 | 第61-62页 |
| 第三章 真空室内的机构设计 | 第62-73页 |
| 3.1 真空室内的机构的设计指标和安装位置 | 第62-65页 |
| 3.1.1 机构的设计指标 | 第62-63页 |
| 3.1.2 机构的安装位置 | 第63-65页 |
| 3.2 喷枪往复机构的设计 | 第65-68页 |
| 3.2.1 喷枪往复机的主要结构及工作原理 | 第65-66页 |
| 3.2.2 喷枪往复机的机架结构 | 第66-67页 |
| 3.2.3 光杆排线器工作原理和作用 | 第67-68页 |
| 3.3 自转机构的设计 | 第68-69页 |
| 3.3.1 自转机构的主要结构 | 第68-69页 |
| 3.3.2 头盔夹具的主要结构及工作原理 | 第69页 |
| 3.4 传动轴动密封的设计 | 第69-72页 |
| 3.5 本章小结 | 第72-73页 |
| 第四章 真空静电涂装工艺过程的分析与实践 | 第73-95页 |
| 4.1 静电喷涂的工艺过程原理及影响因素 | 第73-79页 |
| 4.1.1 静电涂装的原理 | 第73-74页 |
| 4.1.2 漆液静电涂装的三个过程 | 第74-79页 |
| 4.2 头盔喷涂运动特性研究 | 第79-87页 |
| 4.2.1 ADAMS简介 | 第79-80页 |
| 4.2.2 头盔喷涂的曲线特性研究 | 第80-87页 |
| 4.3 真空静电喷涂工艺实践 | 第87-94页 |
| 4.3.1 真空静电喷涂头盔的工艺流程 | 第87-89页 |
| 4.3.2 真空静电喷涂头盔的工艺参数试验 | 第89-91页 |
| 4.3.3 试验结果分析 | 第91-94页 |
| 4.4 本章小结 | 第94-95页 |
| 总结与展望 | 第95-97页 |
| 一 全文总结 | 第95页 |
| 二 工作展望 | 第95-97页 |
| 参考文献 | 第97-101页 |
| 攻读学位期间发表的论文 | 第101-103页 |
| 致谢 | 第103页 |
