| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 第1章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 前言 | 第10页 |
| 1.2 高酸值原油炼制设备的腐蚀环境分析 | 第10-12页 |
| 1.2.1 电化学腐蚀环境 | 第11页 |
| 1.2.2 化学腐蚀环境 | 第11-12页 |
| 1.3 炼制设备的腐蚀形态 | 第12-13页 |
| 1.4 小分子有机酸引起腐蚀的研究现状 | 第13页 |
| 1.5 缓蚀剂的研究现状 | 第13-15页 |
| 1.6 消泡剂的研究现状 | 第15-16页 |
| 1.7 金属防腐领域常用的测试方法 | 第16-17页 |
| 1.7.1 交流阻抗测试方法 | 第16页 |
| 1.7.2 扫描电子显微镜测试 | 第16页 |
| 1.7.3 原子力显微镜测试 | 第16-17页 |
| 1.8 本实验研究内容 | 第17-19页 |
| 第2章 实验部分 | 第19-25页 |
| 2.1 实验仪器及药品 | 第19-21页 |
| 2.1.1 实验仪器 | 第19-20页 |
| 2.1.2 实验药品 | 第20-21页 |
| 2.2 水溶性咪唑啉酰胺与嵌段聚醚改性硅油的合成 | 第21-22页 |
| 2.2.1 水溶性咪唑啉酰胺的合成 | 第21页 |
| 2.2.2 嵌段聚醚改性硅油的合成 | 第21-22页 |
| 2.3 评价水溶性咪唑啉酰胺的起泡性及抑制其起泡性的研究方法 | 第22页 |
| 2.3.1 水溶性咪唑啉酰胺起泡性能的研究方法 | 第22页 |
| 2.3.2 不同消泡剂对水溶性咪唑啉酰胺的消泡性能的研究方法 | 第22页 |
| 2.3.3 不同消泡剂抑制水溶性咪唑啉酰胺起泡性能的研究方法 | 第22页 |
| 2.4 评价水溶性咪唑啉酰胺成膜缓蚀性能的溶液配制 | 第22-23页 |
| 2.4.1 0.05mol/L氢氧化钠标准溶液的配制 | 第22-23页 |
| 2.4.2 腐蚀介质溶液的配制 | 第23页 |
| 2.4.3 酸、碱清洗液的配制 | 第23页 |
| 2.5 实验用材料的处理 | 第23页 |
| 2.6 交流阻抗测试 | 第23页 |
| 2.7 扫描电子显微镜测试 | 第23-24页 |
| 2.8 原子力显微镜测试 | 第24页 |
| 2.9 本文实验条件 | 第24-25页 |
| 第3章 结果与讨论 | 第25-45页 |
| 3.1 水溶性咪唑啉酰胺的物性研究 | 第25-30页 |
| 3.1.1 水溶性咪唑啉酰胺及与不同中和剂复配后的理化性质 | 第25-28页 |
| 3.1.2 水溶性咪唑啉酰胺的起泡性及消泡剂对其消泡和抑泡性研究 | 第28-30页 |
| 本节小结 | 第30页 |
| 3.2 水溶性咪唑啉酰胺的加剂量对成膜缓蚀性能的影响 | 第30-36页 |
| 3.2.1 交流阻抗测试 | 第30-32页 |
| 3.2.2 原子力显微镜测试 | 第32-35页 |
| 3.2.3 扫描电镜测试 | 第35-36页 |
| 本节小结 | 第36页 |
| 3.3 不同体系pH对水溶性咪唑啉酰胺的成膜缓蚀性能的影响 | 第36-40页 |
| 3.3.1 交流阻抗测试 | 第36-38页 |
| 3.3.2 原子力显微镜力曲线分析 | 第38页 |
| 3.3.3 扫描电镜测试 | 第38-39页 |
| 本节小结 | 第39-40页 |
| 3.4 不同温度对水溶性咪唑啉酰胺的成膜缓蚀性能的影响 | 第40-42页 |
| 3.4.1 原子力显微镜力曲线分析 | 第40-41页 |
| 3.4.2 扫描电子显微镜测试 | 第41-42页 |
| 本节小结 | 第42页 |
| 3.5 不同流速对水溶性咪唑啉酰胺的成膜缓蚀性能的影响 | 第42-45页 |
| 3.5.1 原子力显微镜力曲线分析 | 第42-43页 |
| 3.5.2 扫描电子显微镜测试 | 第43-44页 |
| 本节小结 | 第44-45页 |
| 第4章 结论 | 第45-46页 |
| 参考文献 | 第46-52页 |
| 在学期间研究成果 | 第52-53页 |
| 致谢 | 第53页 |
