摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
第一章 绪论 | 第9-24页 |
1.1 研究背景 | 第9-14页 |
1.1.1 纳米材料的基本性质 | 第9-11页 |
1.1.2 纳米颗粒的合成方法简介 | 第11-13页 |
1.1.3 离子注入技术及其应用 | 第13-14页 |
1.2 透明绝缘介质中金属纳米颗粒的线性和非线性光学性质 | 第14-21页 |
1.2.1 透明绝缘介质中金属纳米颗粒的线性光学性质 | 第14-19页 |
1.2.2 透明绝缘介质中金属纳米颗粒的非线性光学性质 | 第19-21页 |
1.3 双离子注入合成合金纳米颗粒的研究 | 第21-22页 |
1.4 本论文的主要研究内容 | 第22-24页 |
第二章 样品的制备以及表征手段 | 第24-35页 |
2.1 样品的制备 | 第24-30页 |
2.1.1 基底参数和离子注入仪器简介 | 第24-25页 |
2.1.2 样品的分类及SRIM模拟结果 | 第25-28页 |
2.1.3 样品的退火处理 | 第28-30页 |
2.2 表征方法及其原理 | 第30-35页 |
2.2.1 紫外-可见分光光度计(UV-Vis) | 第30-31页 |
2.2.2 掠射角X射线衍射(GIXRD) | 第31页 |
2.2.3 透射电子显微镜(TEM) | 第31-32页 |
2.2.4 Z-扫描(Z-scan) | 第32-35页 |
第三章 Cu、Zn离子注入SiO_2合金的合成、热稳定性和光学性质的研究 | 第35-44页 |
3.1 UV-Vis测试结果及分析 | 第35-38页 |
3.2 XTEM测试结果及分析 | 第38-41页 |
3.3 标准Z-扫描测试结果及分析 | 第41-43页 |
3.4 本章小结 | 第43-44页 |
第四章 Cu、Ti离子注入SiO_2合金的合成和光学性质热演变规律的研究 | 第44-53页 |
4.1 低能量Cu和Ti顺次注入后合金的合成和光学性质热演变规律 | 第44-48页 |
4.1.1 UV-Vis测试结果及分析 | 第44-47页 |
4.1.2 GIXRD测试结果及分析 | 第47-48页 |
4.2 高能量Cu和Ti顺次注入后合金的合成和光学性质热演变规律 | 第48-52页 |
4.2.1 UV-Vis测试结果及分析 | 第48-51页 |
4.2.2 GIXRD测试结果及分析 | 第51-52页 |
4.3 本章小结 | 第52-53页 |
第五章 结论与展望 | 第53-55页 |
5.1 主要结论 | 第53-54页 |
5.2 展望 | 第54-55页 |
参考文献 | 第55-61页 |
发表论文和参加科研情况说明 | 第61-62页 |
致谢 | 第62-63页 |