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32nm CMOS多米诺单元电路NBTI老化分析与防护

致谢第7-8页
摘要第8-9页
abstract第9-10页
第一章 绪论第14-26页
    1.1 课题研究背景第14-21页
        1.1.1 集成电路可靠性及老化效应第14-19页
        1.1.2 多米诺电路及其老化第19-21页
    1.2 国内外研究现状第21-24页
        1.2.1 NBTI补偿技术第21-22页
        1.2.2 NBTI缓解技术第22-23页
        1.2.3 多米诺电路研究第23-24页
    1.3 本文的主要工作第24-25页
    1.4 论文的组织第25-26页
第二章 研究工作基础第26-37页
    2.1 NBTI效应及建模第26-30页
        2.1.1 NBTI效应第26-28页
        2.1.2 NBTI效应的建模第28-30页
    2.2 多米诺电路第30-33页
        2.2.1 动态门第30-32页
        2.2.2 多米诺电路及其性能第32-33页
    2.3 Hspice仿真工具第33-36页
        2.3.1 HSPICE仿真的基本框架第33-34页
        2.3.2 MOSRA模型力量介绍第34-36页
    2.4 本章小结第36-37页
第三章 P型多米诺与门NBTI老化分析与防护第37-48页
    3.1 研究动机第37页
    3.2 P型多米诺与门工作原理第37-39页
    3.3 NBTI对P型多米诺与门性能影响第39-44页
    3.4 P型多米诺与门容老化设计第44-47页
    3.5 本章小结第47-48页
第四章 N型多米诺或门NBTI老化分析与防护第48-56页
    4.1 研究动机第48-49页
    4.2 N型多米诺或门工作原理第49-50页
    4.3 NBTI对N型多米诺或门性能影响第50-53页
    4.4 N型多米诺或门容老化设计及实验结果第53-55页
    4.5 本章小结第55-56页
第五章 结论与展望第56-58页
    5.1 研究工作总结第56-57页
    5.2 未来工作展望第57-58页
参考文献第58-62页
攻读硕士期间的学术活动及成果情况第62页

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