| 摘要 | 第1-9页 |
| ABSTRACT | 第9-15页 |
| 第一章 绪论 | 第15-34页 |
| ·磁性材料 | 第15页 |
| ·软磁材料 | 第15-21页 |
| ·软磁材料的分类 | 第16-19页 |
| ·软磁薄膜的发展 | 第19-20页 |
| ·软磁材料 CoNiFe 的电沉积研究 | 第20-21页 |
| ·硬磁材料 | 第21-24页 |
| ·硬磁材料的分类 | 第21-22页 |
| ·NdFeB 永磁薄膜的发展概况 | 第22-23页 |
| ·NdFeB 稀土永磁薄膜的电沉积技术 | 第23-24页 |
| ·复合电沉积技术的应用 | 第24-26页 |
| ·复合电沉积的特点、分类及应用 | 第24-25页 |
| ·纳米复合电沉积发展概况 | 第25-26页 |
| ·电化学阻抗谱研究方法 | 第26-30页 |
| ·电化学阻抗法原理 | 第26-27页 |
| ·电化学阻抗的分析方法 | 第27-28页 |
| ·电化学阻抗在金属腐蚀中的应用 | 第28-29页 |
| ·电化学阻抗在电沉积中的应用 | 第29-30页 |
| ·电化学噪声技术 | 第30-33页 |
| ·电化学噪声原理 | 第30-31页 |
| ·电化学噪声在电化学中的应用 | 第31-33页 |
| ·课题的提出及其主要研究内容 | 第33-34页 |
| 第二章 纳米晶 CoNiFe 软磁薄膜的电沉积工艺研究 | 第34-54页 |
| ·概述 | 第34页 |
| ·实验方法 | 第34-37页 |
| ·CoNiFe薄膜的电沉积 | 第34-36页 |
| ·CoNiFe软磁薄膜的结构与性能表征 | 第36页 |
| ·CoNiFe软磁薄膜电沉积的电化学阻抗谱表征 | 第36页 |
| ·电沉积CoNiFe软磁薄膜的循环伏安行为表征 | 第36-37页 |
| ·振动样品磁强计（VSM）的测定 | 第37页 |
| ·CoNiFe电沉积过程中工艺参数影响研究 | 第37-47页 |
| ·沉积液pH的影响 | 第37-38页 |
| ·沉积液中Fe~(2+)、Co~(2+)、Ni~(2+)浓度对薄膜电沉积的影响 | 第38-41页 |
| ·CV电位区间对CoNiFe薄膜电沉积的影响 | 第41-44页 |
| ·软磁薄膜中硼及磷元素的影响 | 第44-47页 |
| ·优化的 CoNiFe 合金薄膜的相关性能 | 第47-52页 |
| ·软磁薄膜的 XRD 分析 | 第47-49页 |
| ·软磁薄膜的 VSM 分析 | 第49-51页 |
| ·软磁薄膜的耐蚀性能分析 | 第51-52页 |
| ·本章小结 | 第52-54页 |
| 第三章 CoNiFe-Si_3N_4纳米复合软磁薄膜的循环伏安法制备及其结构、性能分析 | 第54-72页 |
| ·引言 | 第54-55页 |
| ·实验方法 | 第55页 |
| ·纳米 Si_3N_4粒子表面零电荷电位测定 | 第55-58页 |
| ·CoNiFe-Si_3N_4纳米复合薄膜的电沉积中工艺参数的影响 | 第58-67页 |
| ·沉积电位区间的选择 | 第58-61页 |
| ·纳米粒子 Si_3N_4浓度对复合薄膜的影响 | 第61-63页 |
| ·pH 值的影响 | 第63-65页 |
| ·搅拌速度的影响 | 第65-67页 |
| ·优化后的 CoNiFe-Si_3N_4纳米复合薄膜的结构、性能表征 | 第67-71页 |
| ·微观组织结构分析 | 第68-69页 |
| ·CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜的综合磁性能 | 第69-70页 |
| ·CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜的硬度 | 第70-71页 |
| ·本章小结 | 第71-72页 |
| 第四章 CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜的电沉积机理研究 | 第72-101页 |
| ·引言 | 第72页 |
| ·实验部分 | 第72-73页 |
| ·结果与讨论 | 第73-86页 |
| ·CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜电沉积中的循环伏安行为 | 第73-74页 |
| ·CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜电沉积中的循环伏安行为的电位阶跃分析 | 第74-80页 |
| ·电化学阻抗谱分析 | 第80-86页 |
| ·CoNiFe 及 CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜电沉积的 EIS 的动力学分析 | 第86-94页 |
| ·CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜的分子轨道理论分析 | 第94-96页 |
| ·CoNiFe 及 CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜的电沉积模型 | 第96-99页 |
| ·本章小结 | 第99-101页 |
| 第五章 CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜的腐蚀性能及机理研究 | 第101-125页 |
| ·概述 | 第101页 |
| ·实验方法 | 第101-103页 |
| ·CoNiFe 与 CoNiFe- Si_3N_4复合薄膜的 Tafel 极化行为测试 | 第102页 |
| ·CoNiFe- Si_3N_4复合薄膜电化学阻抗行为测试 | 第102页 |
| ·CoNiFe- Si_3N_4复合薄膜电化学噪声行为测试 | 第102-103页 |
| ·CoNiFe- Si_3N_4复合薄膜的腐蚀形貌观察 | 第103页 |
| ·CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜在中性 NaCl 溶液中的 Tafel 极化行为 | 第103-105页 |
| ·CoNiFe 及 CoNiFe- Si_3N_4复合薄膜的电化学阻抗行为 | 第105-111页 |
| ·CoNiFe-Si_3N_4复合薄膜在中性 3.5wt.%NaCl 溶液中的电化学噪声行为研究 | 第111-124页 |
| ·电位噪声曲线 | 第111-113页 |
| ·腐蚀信号功率密度（SPD）的计算及分析 | 第113-116页 |
| ·无因次参数 SE与 SG的计算及分析 | 第116-119页 |
| ·Skewness & Kurtosis 的合理性验证 | 第119-120页 |
| ·能量密度（EDP）的计算 | 第120-124页 |
| ·本章小结 | 第124-125页 |
| 第六章 NdFeB 永磁薄膜的电沉积工艺初探 | 第125-136页 |
| ·引言 | 第125页 |
| ·实验部分 | 第125-127页 |
| ·NdFeB 永磁薄膜电沉积中主要参数的影响规律 | 第127-135页 |
| ·主盐成分对 NdFeB 薄膜的循环伏安行为的影响 | 第127-128页 |
| ·络合剂对沉积过程的循环伏安行为影响 | 第128-130页 |
| ·CV 电位区间对 NdFeB 薄膜电沉积的影响 | 第130-133页 |
| ·沉积液中 NdCl3浓度对 NdFeB 薄膜电沉积的影响 | 第133-135页 |
| ·本章小结 | 第135-136页 |
| 第七章 全文总结 | 第136-139页 |
| ·总结 | 第136-137页 |
| ·展望 | 第137-139页 |
| 参考文献 | 第139-156页 |
| 符号与标记 | 第156-157页 |
| 致谢 | 第157-158页 |
| 博士期间发表的论文及申请专利 | 第158-159页 |
| 附件 | 第159页 |
