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基于蒙特卡洛方法的Ⅲ-Ⅴ族氮化物半导体输运特性研究

作者简介第1-4页
摘要第4-6页
Abstract第6-8页
目录第8-10页
第一章 绪论第10-18页
   ·半导体输运研究背景及意义第10-13页
   ·Ⅲ-Ⅴ族氮化物半导体输运研究现状第13-15页
   ·本文的主要研究工作与内容安排第15-18页
第二章 蒙特卡洛输运模拟原理第18-32页
   ·输运方法概述第18-20页
     ·漂移扩散模型第19页
     ·流体动力学方法第19-20页
     ·蒙特卡洛方法第20页
   ·蒙特卡洛方法输运原理第20-28页
     ·蒙特卡洛方法简介第20-21页
     ·蒙特卡洛用于输运模拟的原理第21-26页
     ·散射机制第26-28页
   ·蒙特卡洛平台开发第28-31页
   ·本章小结第31-32页
第三章 Ⅲ-Ⅴ族氮化物半导体瞬态输运研究第32-54页
   ·瞬态研究的必要性第32-37页
   ·速度上冲和电子弛豫过程研究第37-49页
     ·蒙特卡洛仿真实现第37-40页
     ·仿真结果第40-48页
     ·GaN 速度上冲研究第48-49页
   ·速度下冲研究第49-53页
     ·InN 速度下冲物理机制研究第49-52页
     ·GaN 中的速度下冲现象第52-53页
   ·本章小结第53-54页
第四章 Ⅲ-Ⅴ族氮化物动量和能量弛豫时间模型研究第54-76页
   ·研究能量弛豫时间模型的必要性第54-57页
   ·能量和动量弛豫时间计算方法第57-58页
   ·纤锌矿 GaN,InN 和 AlN 动量弛豫时间和能量弛豫时间机制研究第58-75页
     ·蒙特卡洛仿真参数设置第58-59页
     ·纤锌矿 GaN,InN 和 AlN 动量弛豫和能量弛豫过程研究第59-72页
     ·GaN 动量和能量弛豫时间和浓度的关系第72-75页
   ·本章小结第75-76页
第五章 Ⅲ-Ⅴ族氮化物半导体稳态输运研究第76-106页
   ·稳态输运研究的必要性第76-81页
   ·扩散系数研究第81-95页
     ·纤锌矿 GaN 扩散系数研究第81-90页
     ·纤锌矿 InN 扩散系数第90-95页
   ·低场迁移率研究第95-101页
   ·高场输运研究第101-104页
   ·本章小结第104-106页
第六章 基于蒙特卡洛的耿氏二极管太赫兹源输运研究第106-124页
   ·基于耿氏二极管的太赫兹研究第106-109页
   ·蒙特卡洛方法和泊松方程耦合输运研究[6.27-6.30]第109-113页
     ·超粒子电荷第110-111页
     ·泊松方程求解第111-112页
     ·耦合算法和数据收集第112-113页
   ·均匀掺杂耿氏二极管仿真结果第113-123页
     ·直流仿真第114-120页
     ·交流仿真第120-123页
   ·本章小结第123-124页
第七章 结束语第124-126页
   ·论文工作总结及主要创新点第124-125页
   ·未来工作展望第125-126页
致谢第126-128页
参考文献第128-146页
攻读博士学位期间的研究成果第146-148页

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