| 中文摘要 | 第1-8页 |
| Abstract | 第8-11页 |
| 第一章 绪论 | 第11-25页 |
| ·前言 | 第11-16页 |
| ·纳米材料技术与前景 | 第11-13页 |
| ·SnO_2半导体纳米材料科研前景与国内外研究现状 | 第13-16页 |
| ·SnO_2的结构、性质及其应用 | 第16-21页 |
| ·SnO_2基本性质与结构 | 第16-17页 |
| ·SnO_2纳米材料的应用 | 第17-21页 |
| ·SnO_2纳米材料的制备方法 | 第21-23页 |
| ·论文选题依据 | 第23-25页 |
| 第二章 实验材料与测试设备 | 第25-38页 |
| ·实验材料与准备 | 第25-26页 |
| ·实验源材料和保护气体 | 第25页 |
| ·预处理 | 第25-26页 |
| ·实验测试设备 | 第26-30页 |
| ·溅射设备—JCK-500A 型磁控溅射仪 | 第26-28页 |
| ·退火设备-高温管式炉 | 第28-30页 |
| ·样品的性能测试设备和原理 | 第30-38页 |
| ·扫描电子显微镜（SEM） | 第30-32页 |
| ·透射电子镜（TEM） | 第32-33页 |
| ·X 射线衍射（XRD） | 第33-35页 |
| ·能量弥散 X 射线谱分析（EDS） | 第35-36页 |
| ·傅里叶红外吸收（FTIR） | 第36-37页 |
| ·拉曼光谱 | 第37-38页 |
| 第三章 不同生长条件对 SnO_2纳米结构的影响 | 第38-46页 |
| ·实验准备过程 | 第38-40页 |
| ·实验设备 | 第38页 |
| ·实验原料 | 第38-39页 |
| ·工艺方法 | 第39-40页 |
| ·实验探索过程 | 第40-45页 |
| ·催化剂对二氧化锡纳米材料形貌的影响 | 第40-41页 |
| ·退火温度对二氧化锡纳米材料形貌的影响 | 第41-42页 |
| ·退火时间对二氧化锡纳米材料形貌的影响 | 第42-43页 |
| ·其他因素对二氧化锡纳米材料形貌的影响 | 第43-45页 |
| ·本章小结 | 第45-46页 |
| 第四章 二氧化锡纳米线和纳米颗粒的制备与表征 | 第46-65页 |
| ·利用磁控溅射及热蒸发制备 SnO_2纳米线及结构表征 | 第46-56页 |
| ·实验步骤 | 第46-47页 |
| ·结果与分析 | 第47-54页 |
| ·SnO_2纳米线的生长机制分析 | 第54-56页 |
| ·SnO_2纳米颗粒的制备及结构表征 | 第56-63页 |
| ·实验结果与分析 | 第56-61页 |
| ·二氧化锡纳米颗粒的生长机制及 C 粉的作用 | 第61-63页 |
| ·本章小结 | 第63-65页 |
| 第五章 全文总结 | 第65-69页 |
| ·实验成果 | 第65-66页 |
| ·创新之处 | 第66-67页 |
| ·今后工作的建议与展望 | 第67-69页 |
| 研究生期间发表的论文 | 第69-71页 |
| 致谢 | 第71-73页 |
| 参考文献 | 第73-76页 |