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高精度质谱仪SMILETRAP Ⅱ的安装调试及实验

中文摘要第1-5页
英文摘要第5-8页
第一章 SMILETRAPII总体介绍第8-11页
第二章 离子阱质量测量原理第11-28页
   ·离子在理想Penning阱中的本征运动第11-15页
   ·Ramsey离子激发技术第15-20页
   ·飞行时间技术(TOF)第20-22页
   ·数据分析工具第22-28页
第三章 实验设备与实验过程第28-36页
   ·在S-EBIT实验室所使用的离子源第30-32页
   ·Pre-Trap预冷却离子阱第32-33页
   ·Precision-Trap高精确度离子阱第33-36页
第四章 离子在预冷却离子阱Pre-Trap中的束缚第36-47页
   ·利用电子枪在离子阱中电离并束缚离子的时钟设置第36-40页
   ·SMILIS产生的离子的束缚第40-44页
   ·束缚S-EBIT产生的离子第44-47页
第五章 在Pre-Trap中的离子冷却技术第47-51页
   ·自发冷却第47-48页
   ·离子冷却第48页
   ·频带激发冷却第48-49页
   ·电流抑制冷却第49-50页
   ·蒸发冷却第50-51页
第六章 质量测量的实验方法与过程第51-61页
   ·质量测量实验过程第51-55页
   ·影响测量精度的因素第55-61页
第七章 温度对质量测量的影响及调整第61-67页
   ·温度对质量测量的影响第61-62页
   ·PID算法控制器原理第62-65页
   ·实验结果第65-67页
第八章 预冷却离子阱Pre-Trap实验第67-75页
   ·蒸发冷却实验第67-70页
  1.E-GUN方式离子束的蒸发冷却第67-69页
  2.S-EBIT离子束蒸发冷却第69-70页
   ·离子阱中离子群体轴向振动频率测量实验第70-75页
第九章 结论与展望第75-77页
致谢第77-78页
参考文献第78-81页
已发表的文章第81-82页

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