Zn-Sn-O薄膜的共溅法制备及其气敏性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-11页 |
| 1 绪论 | 第11-18页 |
| ·引言 | 第11-12页 |
| ·SnO_2和 ZnSnO_3基本物理性质 | 第12-14页 |
| ·SnO_2和 ZnSnO_3材料的研究概况 | 第14-15页 |
| ·SnO_2的研究概况 | 第14页 |
| ·ZnSnO_3的研究概况 | 第14-15页 |
| ·本实验立题依据、研究内容和创新点 | 第15-18页 |
| ·立题依据 | 第15-16页 |
| ·研究内容 | 第16页 |
| ·创新点 | 第16-18页 |
| 2 Zn-Sn-O 薄膜的制备 | 第18-26页 |
| ·Zn-Sn-O 薄膜的制备法 | 第18-20页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第18页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第18-19页 |
| ·化学气相沉积法 | 第19页 |
| ·分子束外延法 | 第19页 |
| ·激光脉冲沉积法 | 第19-20页 |
| ·反应磁控溅射法简介 | 第20-22页 |
| ·磁控溅射机理 | 第20-21页 |
| ·磁控溅射制膜的特点 | 第21页 |
| ·磁控溅射法的优势 | 第21-22页 |
| ·Zn-Sn-O 薄膜的制备 | 第22-25页 |
| ·实验设备与仪器 | 第22-23页 |
| ·实验工艺 | 第23-25页 |
| ·小结 | 第25-26页 |
| 3 Zn-Sn-O 薄膜的表征 | 第26-31页 |
| ·薄膜厚度的测定 | 第26页 |
| ·X 射线衍射测试 | 第26-28页 |
| ·霍尔测试 | 第28-30页 |
| ·小结 | 第30-31页 |
| 4 Zn-Sn-O 薄膜的气敏性能测试与分析 | 第31-43页 |
| ·测试系统的建立 | 第31-33页 |
| ·气敏系统的气路设计 | 第31-32页 |
| ·测试系统的整体结构 | 第32-33页 |
| ·气敏传感器的参数 | 第33-35页 |
| ·Zn-Sn-O 薄膜对于 H_2的气敏特性 | 第35-37页 |
| ·溅射功率对 H_2气敏性的影响 | 第35页 |
| ·温度对 H_2气敏性的影响 | 第35-36页 |
| ·H_2气敏的响应恢复性 | 第36-37页 |
| ·Zn-Sn-O 薄膜对于 LPG 的气敏特性 | 第37-39页 |
| ·溅射功率对 LPG 的气敏影响 | 第37页 |
| ·温度对 LPG 气敏的影响 | 第37-38页 |
| ·LPG 气敏的响应恢复性 | 第38-39页 |
| ·Zn-Sn-O 薄膜对于的酒精气敏特性 | 第39-41页 |
| ·溅射功率对酒精气敏性能的影响 | 第39页 |
| ·温度对酒精气敏的影响 | 第39-40页 |
| ·酒精气敏响应恢复特性 | 第40-41页 |
| ·气体传感器的选择性 | 第41页 |
| ·小结 | 第41-43页 |
| 5 Zn-Sn-O 薄膜气敏机理 | 第43-52页 |
| ·气敏特性 | 第43页 |
| ·气敏机理模型 | 第43-47页 |
| ·表面电荷层模型 | 第43-44页 |
| ·晶界势垒控制模型 | 第44-45页 |
| ·物理吸附、脱附模型 | 第45-46页 |
| ·化学吸附、脱附模型 | 第46-47页 |
| ·ZnSnO_3气敏机理的研究 | 第47-51页 |
| ·ZnSnO_3薄膜气敏传感器 | 第47页 |
| ·ZnSnO_3薄膜的气-固反应 | 第47-48页 |
| ·小尺寸效应和掺杂的作用机理 | 第48-49页 |
| ·表面反应和选择性的关系 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-52页 |
| 6 结论与展望 | 第52-54页 |
| 参考文献 | 第54-59页 |
| 附录 | 第59-60页 |
| 致谢 | 第60页 |
