共溅法WO3：Ti薄膜的制备及光学气敏性能研究
| 摘要 | 第1-6页 |
| ABSTRACT | 第6-10页 |
| 1 绪论 | 第10-21页 |
| ·引言 | 第10页 |
| ·WO_3的物理性质 | 第10-11页 |
| ·掺杂 WO_3基材料的研究进展 | 第11-19页 |
| ·主族金属元素掺杂 | 第11-13页 |
| ·过渡金属元素掺杂 | 第13-16页 |
| ·稀土金属元素掺杂 | 第16-17页 |
| ·非金属掺杂 | 第17-18页 |
| ·多元掺杂 | 第18-19页 |
| ·本文的立题依据、研究内容及创新点 | 第19-21页 |
| ·立题依据 | 第19页 |
| ·研究内容及创新点 | 第19-21页 |
| 2 W03薄膜的制备 | 第21-32页 |
| ·WO_3薄膜的制备技术及进展 | 第21-23页 |
| ·真空蒸发镀膜法 | 第21-22页 |
| ·溅射镀膜法 | 第22页 |
| ·溶胶-凝胶法 | 第22-23页 |
| ·化学气相沉积法（CVD） | 第23页 |
| ·反应磁控溅射法简介 | 第23-27页 |
| ·磁控溅射机理 | 第23-25页 |
| ·反应磁控溅射法的类型 | 第25-26页 |
| ·反应磁控溅射法的优势 | 第26-27页 |
| ·WO_3薄膜及 WO_3:Ti 薄膜的制备 | 第27-30页 |
| ·实验设备与仪器 | 第27-28页 |
| ·实验工艺 | 第28页 |
| ·衬底的预处理及清洗 | 第28页 |
| ·镀膜设备的清洁 | 第28-29页 |
| ·薄膜的制备过程 | 第29-30页 |
| ·薄膜的热处理 | 第30-31页 |
| ·小结 | 第31-32页 |
| 3 WO_3薄膜的表征与分析 | 第32-41页 |
| ·膜厚的测定 | 第32页 |
| ·透射率的检测 | 第32-35页 |
| ·Ti 的不同溅射功率对薄膜的透射率的影响 | 第33-34页 |
| ·氧分压对薄膜的透射率的影响 | 第34-35页 |
| ·热处理温度对薄膜的透射率的影响 | 第35页 |
| ·薄膜微结构 X 射线衍射测定 | 第35-40页 |
| ·Ti 的不同溅射功率对薄膜的微结构的影响 | 第36-38页 |
| ·氧分压对薄膜的微结构的影响 | 第38-39页 |
| ·热处理温度对薄膜的微结构的影响 | 第39-40页 |
| ·小结 | 第40-41页 |
| 4 WO_3:Ti 薄膜的光学气敏性能测试与分析 | 第41-53页 |
| ·测试系统的建立 | 第42-43页 |
| ·测试系统的气路设计 | 第42页 |
| ·测试装置的具体结构 | 第42-43页 |
| ·样品的光学气敏测试流程 | 第43-44页 |
| ·WO_3薄膜对酒精的光学气敏特性 | 第44-46页 |
| ·WO_3薄膜对 H_2气体的光学气敏特性 | 第46-47页 |
| ·WO_3薄膜对 NO_2气体的光学气敏特性 | 第47-48页 |
| ·样品对酒精、H_2、NO_2气体的敏感性比较 | 第48-49页 |
| ·气敏机理分析 | 第49-51页 |
| ·小结 | 第51-53页 |
| 5 结论与展望 | 第53-55页 |
| ·结论 | 第53页 |
| ·展望 | 第53-55页 |
| 参考文献 | 第55-61页 |
| 附录 A | 第61-62页 |
| 致谢 | 第62页 |
