红外窗口用二氧化硅/氧化钇增透膜的优化制备与评价
| 摘要 | 第1-5页 |
| Abstract | 第5-10页 |
| 第1章 绪论 | 第10-22页 |
| ·研究背景 | 第10-14页 |
| ·提高蓝宝石高温强度的途径 | 第14-17页 |
| ·热处理增加高温强度 | 第15页 |
| ·中子光掺入法 | 第15-16页 |
| ·镀膜方法 | 第16-17页 |
| ·增加晶体缺陷提高蓝宝石压缩强度 | 第17页 |
| ·增透保护薄膜的制备方法 | 第17-18页 |
| ·二氧化硅和氧化钇薄膜性质 | 第18-20页 |
| ·二氧化硅薄膜的性能 | 第18-20页 |
| ·氧化钇薄膜的性能 | 第20页 |
| ·本文的主要研究内容 | 第20-22页 |
| 第2章 薄膜的制备和表征 | 第22-30页 |
| ·磁控溅射结构组成 | 第22-23页 |
| ·工艺参数的选择 | 第23-24页 |
| ·基本的工艺参数 | 第23-24页 |
| ·工艺流程 | 第24-26页 |
| ·薄膜表征方法 | 第26-28页 |
| ·X射线衍射仪 | 第26页 |
| ·X射线光电子能谱仪 | 第26页 |
| ·扫描电子显微镜 | 第26-27页 |
| ·原子力显微镜 | 第27页 |
| ·椭偏仪 | 第27-28页 |
| ·红外分光光度计 | 第28页 |
| ·微米划痕仪 | 第28页 |
| ·本章小结 | 第28-30页 |
| 第3章 膜系设计与优化分析 | 第30-37页 |
| ·膜系设计的基本理论 | 第30-31页 |
| ·蓝宝石衬底上增透保护膜系设计 | 第31-33页 |
| ·理想的增透保护膜系设计 | 第31-33页 |
| ·膜系结构评价 | 第33-36页 |
| ·膜系敏感因子分析 | 第33-35页 |
| ·膜系结构偏差分析 | 第35-36页 |
| ·本章小结 | 第36-37页 |
| 第4章 薄膜制备与优化结构分析 | 第37-56页 |
| ·正交实验 | 第37-39页 |
| ·薄膜粗糙度 | 第39-40页 |
| ·薄膜光电子能谱测试结果与分析 | 第40-45页 |
| ·不同气体流量比下Si0_2 薄膜XPS分析 | 第40-42页 |
| ·不同气体流量比下Y_20_3 薄膜XPS分析 | 第42-45页 |
| ·薄膜XRD测试结果分析 | 第45-49页 |
| ·薄膜椭偏光谱分析 | 第49-52页 |
| ·Si0_2 薄膜椭圆偏振光谱测试 | 第49-50页 |
| ·Y_20_3 薄膜椭圆偏振光谱测试 | 第50-52页 |
| ·复合薄膜表面形貌和断面形貌 | 第52-55页 |
| ·本章小结 | 第55-56页 |
| 第5章 薄膜评价 | 第56-60页 |
| ·薄膜的红外光学性能 | 第56-57页 |
| ·膜基结合力分析 | 第57-59页 |
| ·声发射强度表征 | 第57-58页 |
| ·切向摩擦力变化表征 | 第58-59页 |
| ·本章小结 | 第59-60页 |
| 结论 | 第60-62页 |
| 参考文献 | 第62-67页 |
| 致谢 | 第67页 |
