| 摘要 | 第2-3页 |
| Abstract | 第3-4页 |
| 绪论 | 第8-9页 |
| 1 文献综述 | 第9-30页 |
| 1.1 引言 | 第9页 |
| 1.2 MCM-49的简介 | 第9-15页 |
| 1.2.1 MCM-49分子筛与MCM-22分子筛的结构区别 | 第9-12页 |
| 1.2.2 MCM-49分子筛的合成 | 第12-13页 |
| 1.2.3 MCM-49分子筛的应用 | 第13-15页 |
| 1.3 微介孔复合材料 | 第15-19页 |
| 1.3.1 微介孔复合材料的制备 | 第15-16页 |
| 1.3.2 微介孔复合材料的性质 | 第16-17页 |
| 1.3.3 微介孔复合材料的应用 | 第17-19页 |
| 1.4 多级孔分子筛材料 | 第19-27页 |
| 1.4.1 硬模板法制备多级孔分子筛材料 | 第19-20页 |
| 1.4.2 软模板法制备多级孔分子筛材料 | 第20-22页 |
| 1.4.3 无介孔模板法制备多级孔分子筛材料 | 第22页 |
| 1.4.4 后处理脱铝制备多级孔分子筛材料 | 第22-23页 |
| 1.4.5 后处理脱硅制备多级孔分子筛材料 | 第23-27页 |
| 1.5 MCM-49分子筛的孔道修饰 | 第27-28页 |
| 1.5.1 改变层间距 | 第27-28页 |
| 1.5.2 骨架的层剥离 | 第28页 |
| 1.6 选题的意义和内容 | 第28-30页 |
| 2 实验方法 | 第30-32页 |
| 2.1 主要原料和试剂 | 第30页 |
| 2.2 催化材料的制备 | 第30页 |
| 2.2.1 MCM-49的合成 | 第30页 |
| 2.2.2 多级孔MCM-49分子筛的制备 | 第30页 |
| 2.3 催化材料的表征 | 第30-32页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD)分析 | 第30-31页 |
| 2.3.2 X射线荧光光谱(XRF)分析 | 第31页 |
| 2.3.3 N_2物理吸附分析 | 第31页 |
| 2.3.4 透射电子显微镜(TEM)分析 | 第31-32页 |
| 3 MCM-49分子筛合成条件及双模板剂合成的研究 | 第32-41页 |
| 3.1 引言 | 第32页 |
| 3.2 实验 | 第32-33页 |
| 3.3 温度的影响 | 第33-36页 |
| 3.4 硅源的影响 | 第36-37页 |
| 3.5 碱度的影响 | 第37-39页 |
| 3.6 加入CHA的影响 | 第39页 |
| 3.7 小结 | 第39-41页 |
| 4 制备多级孔MCM-49分子筛条件的研究 | 第41-61页 |
| 4.1 引言 | 第41页 |
| 4.2 实验 | 第41-42页 |
| 4.3 CTAB浓度的影响 | 第42-46页 |
| 4.3.1 XRD的表征 | 第42-43页 |
| 4.3.2 N_2物理吸附表征 | 第43-45页 |
| 4.3.3 XRF的表征 | 第45-46页 |
| 4.4 NaOH浓度的影响 | 第46-49页 |
| 4.4.1 XRD的表征 | 第46页 |
| 4.4.2 N_2物理吸附表征 | 第46-49页 |
| 4.4.3 XRF的表征 | 第49页 |
| 4.5 处理温度的影响 | 第49-53页 |
| 4.5.1 XRD的表征 | 第49-50页 |
| 4.5.2 N_2物理吸附表征 | 第50-52页 |
| 4.5.3 XRF的表征 | 第52-53页 |
| 4.6 处理时间的影响 | 第53-60页 |
| 4.6.1 XRD的表征 | 第53-54页 |
| 4.6.2 N_2物理吸附表征 | 第54-56页 |
| 4.6.3 XRF的表征 | 第56页 |
| 4.6.4 TEM的表征 | 第56-58页 |
| 4.6.5 ICP的表征 | 第58-59页 |
| 4.6.6 ~(27)Al MAS NMR的表征 | 第59-60页 |
| 4.7 小结 | 第60-61页 |
| 5 结论 | 第61-62页 |
| 参考文献 | 第62-76页 |
| 致谢 | 第76-78页 |