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类EIT及其工艺研究

摘要第4-5页
Abstract第5-6页
1 绪论第9-22页
    1.1 类EIT效应第9-12页
    1.2 光开关概述第12-13页
    1.3 石墨烯概述第13-18页
    1.4 光子晶体及其制备工艺第18-20页
    1.5 论文的研究目的及内容第20-22页
2 理论基础与光开关仿真第22-39页
    2.1 时域有限元差分法第22-24页
    2.2 耦合模式理论第24-27页
    2.3 光学非线性效应第27-29页
    2.4 光开关材料的选择第29-32页
    2.5 光开关结构的设计第32-37页
    2.6 本章小结第37-39页
3 强度动态可调PIT第39-50页
    3.1 金属-石墨烯混合超材料建模第39-41页
    3.2 动态可调PIT的仿真结果讨论第41-49页
    3.3 本章小结第49-50页
4 PIT折射率传感应用第50-58页
    4.1 石墨烯纳米条波导耦合石墨烯双腔建模第50-52页
    4.2 基于PIT效应的折射率传感结果讨论第52-56页
    4.3 本章小结第56-58页
5 类EIT光子晶体MZI光开关工艺第58-80页
    5.1 InGaP/GaAs外延片生长第59-60页
    5.2 电子束光刻对图形的定义第60-64页
    5.3 器件结构的刻蚀第64-74页
    5.4 MZI全光开关功能测试第74-78页
    5.5 本章小结第78-80页
6 总结与展望第80-82页
致谢第82-83页
参考文献第83-94页
附录 攻读硕士学位期间发表论文目录第94-95页

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