类EIT及其工艺研究
摘要 | 第4-5页 |
Abstract | 第5-6页 |
1 绪论 | 第9-22页 |
1.1 类EIT效应 | 第9-12页 |
1.2 光开关概述 | 第12-13页 |
1.3 石墨烯概述 | 第13-18页 |
1.4 光子晶体及其制备工艺 | 第18-20页 |
1.5 论文的研究目的及内容 | 第20-22页 |
2 理论基础与光开关仿真 | 第22-39页 |
2.1 时域有限元差分法 | 第22-24页 |
2.2 耦合模式理论 | 第24-27页 |
2.3 光学非线性效应 | 第27-29页 |
2.4 光开关材料的选择 | 第29-32页 |
2.5 光开关结构的设计 | 第32-37页 |
2.6 本章小结 | 第37-39页 |
3 强度动态可调PIT | 第39-50页 |
3.1 金属-石墨烯混合超材料建模 | 第39-41页 |
3.2 动态可调PIT的仿真结果讨论 | 第41-49页 |
3.3 本章小结 | 第49-50页 |
4 PIT折射率传感应用 | 第50-58页 |
4.1 石墨烯纳米条波导耦合石墨烯双腔建模 | 第50-52页 |
4.2 基于PIT效应的折射率传感结果讨论 | 第52-56页 |
4.3 本章小结 | 第56-58页 |
5 类EIT光子晶体MZI光开关工艺 | 第58-80页 |
5.1 InGaP/GaAs外延片生长 | 第59-60页 |
5.2 电子束光刻对图形的定义 | 第60-64页 |
5.3 器件结构的刻蚀 | 第64-74页 |
5.4 MZI全光开关功能测试 | 第74-78页 |
5.5 本章小结 | 第78-80页 |
6 总结与展望 | 第80-82页 |
致谢 | 第82-83页 |
参考文献 | 第83-94页 |
附录 攻读硕士学位期间发表论文目录 | 第94-95页 |