| 摘要 | 第4-6页 |
| ABSTRACT | 第6-7页 |
| 第一章 绪论 | 第11-20页 |
| 1.1 .研究背景 | 第11-15页 |
| 1.1.1 挥发性有机物(VOCs)概述及危害 | 第11-12页 |
| 1.1.2 VOCS净化方法 | 第12-14页 |
| 1.1.3 甲苯的物化性质及危害 | 第14-15页 |
| 1.2 .稀土金属催化氧化甲苯研究现状 | 第15-17页 |
| 1.2.1 铈基金属氧化物催化剂 | 第15-16页 |
| 1.2.2 稀土金属氧化物催化剂 | 第16-17页 |
| 1.2.3 贵金属催化剂 | 第17页 |
| 1.3 .论文研究内容 | 第17-20页 |
| 1.3.1 立题依据 | 第17-18页 |
| 1.3.2 研究内容 | 第18-20页 |
| 第二章 试验方法与表征分析 | 第20-30页 |
| 2.1 .实验试剂与仪器 | 第20-21页 |
| 2.1.1 实验试剂 | 第20页 |
| 2.1.2 实验气体 | 第20页 |
| 2.1.3 实验仪器 | 第20-21页 |
| 2.2 .催化剂制备方法 | 第21-23页 |
| 2.2.1 高比表面积Pt/Eu_2O_3-CeO_2材料的制备 | 第21-22页 |
| 2.2.2 多孔CuO-MO_x-CeO(M=Y,Eu,Ho,Sm)材料的制备 | 第22-23页 |
| 2.3 .实验表征方法 | 第23-27页 |
| 2.3.1 比表面积测试(BET) | 第23页 |
| 2.3.2 X射线衍射测试(XRD) | 第23页 |
| 2.3.3 扫描电镜(SEM)与透射电镜(TEM) | 第23-24页 |
| 2.3.4 X光电子能谱(XPS) | 第24页 |
| 2.3.5 氢气程序升温脱附反应(H_2-TPR) | 第24-25页 |
| 2.3.6 氧气程序升温脱附反应(O_2-TPD) | 第25页 |
| 2.3.7 原位红外测试(insituDRIFTS) | 第25-26页 |
| 2.3.8 等离子体发射光谱(ICP-OES) | 第26页 |
| 2.3.9 H_2-O_2滴定 | 第26-27页 |
| 2.3.10 拉曼光谱(Ramanaspectra) | 第27页 |
| 2.4 .催化剂活性评价 | 第27-30页 |
| 2.4.1 催化剂活性测试方法 | 第27-28页 |
| 2.4.2 催化剂稳定性和抗水性测试方法 | 第28-30页 |
| 第三章 高比表面积PT/EU_2O_3-CEO_2上甲苯的低温催化氧化 | 第30-44页 |
| 3.1 .前言 | 第30-31页 |
| 3.2 .实验部分 | 第31页 |
| 3.3 .催化剂活性 | 第31-34页 |
| 3.3.1 催化剂活性评价 | 第31-33页 |
| 3.3.2 催化剂稳定性及抗水性研究 | 第33-34页 |
| 3.4 .催化剂表征分析 | 第34-42页 |
| 3.4.1 BET | 第34-35页 |
| 3.4.2 SEM及TEM | 第35-37页 |
| 3.4.3 XRD | 第37-38页 |
| 3.4.4 H_2-TPR | 第38-39页 |
| 3.4.5 insituDRIFTS | 第39-40页 |
| 3.4.6 XPS | 第40-42页 |
| 3.5 .小结 | 第42-44页 |
| 第四章 多孔CU-MO_X-CEO_2(M=Y,EU,HO,SM)上甲苯的低温催化氧化 | 第44-61页 |
| 4.1 .前言 | 第44-45页 |
| 4.2 .实验部分 | 第45-46页 |
| 4.3 .催化剂活性评价 | 第46-48页 |
| 4.3.1 催化剂活性评价 | 第46-47页 |
| 4.3.2 催化剂稳定性研究 | 第47-48页 |
| 4.4 .催化剂表征分析 | 第48-60页 |
| 4.4.1 BET | 第48-49页 |
| 4.4.2 SEM及TEM | 第49-52页 |
| 4.4.3 XRD | 第52-53页 |
| 4.4.4 H_2-TPR | 第53-54页 |
| 4.4.5 Ramanaspectra | 第54-55页 |
| 4.4.6 insituDRIFTS | 第55-57页 |
| 4.4.7 O_2-TPD | 第57-58页 |
| 4.4.8 XPS | 第58-60页 |
| 4.5 .小结 | 第60-61页 |
| 第五章 总结与展望 | 第61-63页 |
| 5.1 .总结 | 第61页 |
| 5.2 .展望 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-74页 |
| 攻读硕士期间取得的研究成果 | 第74-75页 |
| 致谢 | 第75-76页 |
