| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第9-26页 |
| 1.1 硅纳米线的概述 | 第9页 |
| 1.2 硅纳米线的制备 | 第9-15页 |
| 1.2.1 激光烧蚀法 | 第10-12页 |
| 1.2.2 热气相沉积法 | 第12页 |
| 1.2.3 模版法 | 第12-13页 |
| 1.2.4 溶液法 | 第13-14页 |
| 1.2.5 其他方法 | 第14-15页 |
| 1.3 硅纳米线的掺杂 | 第15-16页 |
| 1.3.1 磷掺杂硅纳米线 | 第15-16页 |
| 1.3.2 硼掺杂硅纳米线 | 第16页 |
| 1.3.3 锂掺杂硅纳米线 | 第16页 |
| 1.4 硅纳米线的特性 | 第16-20页 |
| 1.4.1 硅纳米线的光学特性 | 第16-17页 |
| 1.4.2 硅纳米线的电学特性 | 第17-20页 |
| 1.5 硅纳米线的表征 | 第20-22页 |
| 1.5.1 形貌成分及结构表征 | 第20-21页 |
| 1.5.2 电学分析 | 第21-22页 |
| 1.5.3 光谱学分析 | 第22页 |
| 1.6 硅纳米线的应用前景 | 第22-24页 |
| 1.6.1 场效应晶体管 | 第23页 |
| 1.6.2 单电子存储元件 | 第23页 |
| 1.6.3 纳米线传感器 | 第23-24页 |
| 1.6.4 光电器件 | 第24页 |
| 1.7 本论文的研究内容 | 第24-26页 |
| 2.金属催化化学腐蚀法制备硅纳米线 | 第26-32页 |
| 2.1 实验原理 | 第26-27页 |
| 2.2 实验过程 | 第27-30页 |
| 2.2.1 准备工作 | 第27页 |
| 2.2.2 实验步骤 | 第27-29页 |
| 2.2.3 其他实验 | 第29-30页 |
| 2.3 测试方法 | 第30页 |
| 2.3.1 光致发光的检测 | 第30页 |
| 2.3.2 样品形貌的观测 | 第30页 |
| 2.4 注意事项 | 第30-32页 |
| 3.实验结果及分析 | 第32-41页 |
| 3.1 实验现象 | 第32-33页 |
| 3.2 第一次腐蚀时不同实验条件制备样品表面银层形貌分析 | 第33-36页 |
| 3.3 第二步刻蚀刻蚀时间对硅纳米线形貌的影响 | 第36-37页 |
| 3.4 其他实验样品形貌分析 | 第37-39页 |
| 3.5 硅纳米线的光致发光 | 第39-41页 |
| 4.总结 | 第41-43页 |
| 4.1 样品的表面形貌特征及光致发光特性 | 第41-42页 |
| 4.2 有待解决的问题 | 第42-43页 |
| 参考文献 | 第43-46页 |
| 附录A | 第46-49页 |
| 个人简历 在学期间发表的学术论文与研究成果 | 第49-50页 |
| 致谢 | 第50页 |