| 摘要 | 第3-5页 |
| ABSTRACT | 第5-6页 |
| 第一章 绪论 | 第10-19页 |
| 1.1 稀土镁合金 | 第10-12页 |
| 1.1.1 稀土对镁合金的作用 | 第10-11页 |
| 1.1.2 稀土镁合金的系列 | 第11-12页 |
| 1.1.3 稀土镁合金的应用 | 第12页 |
| 1.2 镁合金表面改性 | 第12-13页 |
| 1.2.1 阳极氧化 | 第12页 |
| 1.2.2 金属镀层 | 第12-13页 |
| 1.2.3 热扩渗 | 第13页 |
| 1.2.4 离子注入 | 第13页 |
| 1.2.5 物理气相沉积 | 第13页 |
| 1.3 磁控溅射技术 | 第13-17页 |
| 1.3.1 磁控溅射原理 | 第14页 |
| 1.3.2 磁控溅射发展 | 第14-16页 |
| 1.3.3 闭合场非平衡磁控溅射离子镀技术 | 第16-17页 |
| 1.4 磁控溅射在镁合金中的应用 | 第17-18页 |
| 1.5 本文研究的内容及意义 | 第18-19页 |
| 第二章 实验内容及方法 | 第19-27页 |
| 2.1 基体材料及前处理 | 第19页 |
| 2.2 镀层制备 | 第19-20页 |
| 2.3 镀层性能测试方法 | 第20-27页 |
| 2.3.1 表面形貌观察 | 第20-21页 |
| 2.3.2 拉曼光谱 | 第21页 |
| 2.3.3 硬度及弹性模量测试 | 第21页 |
| 2.3.4 划痕测试 | 第21-23页 |
| 2.3.5 电化学测试 | 第23-25页 |
| 2.3.6 摩擦磨损测试 | 第25-27页 |
| 第三章 镀膜工艺对碳膜性能的影响 | 第27-51页 |
| 3.1 清理偏压对碳膜性能的影响 | 第27-30页 |
| 3.1.1 表面形貌 | 第27-28页 |
| 3.1.2 横截面形貌 | 第28-29页 |
| 3.1.3 膜基结合力 | 第29页 |
| 3.1.4 硬度及弹性模量 | 第29-30页 |
| 3.2 镀膜偏压对碳膜性能的影响 | 第30-40页 |
| 3.2.1 表面形貌 | 第31-32页 |
| 3.2.2 膜基结合力 | 第32-33页 |
| 3.2.3 硬度及弹性模量 | 第33页 |
| 3.2.4 耐腐蚀性能 | 第33-37页 |
| 3.2.5 耐磨损性能 | 第37-40页 |
| 3.3 靶电流对碳膜性能的影响 | 第40-49页 |
| 3.3.1 表面形貌 | 第40-41页 |
| 3.3.2 膜基结合力 | 第41-42页 |
| 3.3.3 硬度及弹性模量 | 第42-43页 |
| 3.3.4 耐腐蚀性能 | 第43-46页 |
| 3.3.5 耐磨损性能 | 第46-49页 |
| 3.4 本章小结 | 第49-51页 |
| 第四章 Al、Cr、Ti不同金属过渡层对碳膜性能的影响 | 第51-67页 |
| 4.1 清理偏压对C/Cr、C/Ti薄膜性能的影响 | 第51-57页 |
| 4.1.1 表面形貌 | 第51-53页 |
| 4.1.2 膜基结合力 | 第53-55页 |
| 4.1.3 硬度及弹性模量 | 第55-57页 |
| 4.2 不同过渡层对碳膜性能的影响 | 第57-65页 |
| 4.2.1 表面形貌 | 第57-58页 |
| 4.2.2 硬度及弹性模量 | 第58-59页 |
| 4.2.3 膜基结合力 | 第59-60页 |
| 4.2.4 耐腐蚀性能 | 第60-62页 |
| 4.2.5 耐磨损性能 | 第62-65页 |
| 4.3 本章小结 | 第65-67页 |
| 第五章 Ni+C复合膜层在工程上的应用 | 第67-80页 |
| 5.1 Ni+C复合膜层的制备 | 第67-68页 |
| 5.1.1 化学镀Ni | 第67-68页 |
| 5.1.2 磁控溅射 | 第68页 |
| 5.2 形貌及性能分析 | 第68-78页 |
| 5.2.1 表面形貌 | 第68-69页 |
| 5.2.2 横截面及线扫描 | 第69-70页 |
| 5.2.3 硬度及弹性模量 | 第70-71页 |
| 5.2.4 膜基结合力 | 第71-72页 |
| 5.2.5 耐腐蚀性能 | 第72-75页 |
| 5.2.6 耐磨损性能 | 第75-78页 |
| 5.3 本章小结 | 第78-80页 |
| 第六章 结论 | 第80-82页 |
| 参考文献 | 第82-87页 |
| 攻读硕士学位期间发表的学术论文 | 第87-88页 |
| 致谢 | 第88-90页 |