| 摘要 | 第3-5页 |
| abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第11-22页 |
| 1.1 砷的来源、危害及污染现状 | 第11-12页 |
| 1.2 铁基材料在含砷废水处理中的应用 | 第12-18页 |
| 1.2.1 零价铁及其复合材料的应用 | 第13-14页 |
| 1.2.2 铁氢氧化物及其复合材料的应用 | 第14-15页 |
| 1.2.3 铁氧化物及其复合材料的应用 | 第15-18页 |
| 1.3 氧化石墨烯石墨烯的研究及应用 | 第18-21页 |
| 1.3.1 氧化石墨烯材料的特点及其制备方法 | 第18-19页 |
| 1.3.2 石墨烯基复合材料的制备及在水处理中的应用 | 第19-21页 |
| 1.4 研究意义及内容 | 第21-22页 |
| 1.4.1 研究意义 | 第21页 |
| 1.4.2 研究内容 | 第21-22页 |
| 2 实验材料及方法 | 第22-29页 |
| 2.1 试剂与仪器 | 第22-23页 |
| 2.2 材料的制备及筛选方法 | 第23-24页 |
| 2.2.1 GO的制备 | 第23页 |
| 2.2.2 吸附剂的制备及筛选 | 第23-24页 |
| 2.3 材料的表征 | 第24-25页 |
| 2.3.1 X射线衍射(XRD) | 第24页 |
| 2.3.2 比表面积(BET) | 第24页 |
| 2.3.3 热重/差示扫描量热(TGA-DSC) | 第24页 |
| 2.3.4 Zeta电位 | 第24页 |
| 2.3.5 傅里叶红外光谱(FTIR) | 第24-25页 |
| 2.3.6 X射线光电子能谱(XPS) | 第25页 |
| 2.3.7 扫描电镜(SEM) | 第25页 |
| 2.3.8 透射电镜(TEM) | 第25页 |
| 2.3.9 拉曼光谱(Raman) | 第25页 |
| 2.3.10 饱和磁场强度(VSM) | 第25页 |
| 2.4 静态实验方法 | 第25-26页 |
| 2.4.1 吸附动力学实验 | 第25-26页 |
| 2.4.2 吸附等温线实验 | 第26页 |
| 2.4.3 pH影响实验 | 第26页 |
| 2.4.4 共存离子影响实验 | 第26页 |
| 2.5 动态实验方法 | 第26-28页 |
| 2.5.1 淋洗液浓度筛选及再生循环 | 第26-27页 |
| 2.5.2 动态吸附实验 | 第27-28页 |
| 2.6 样品的测定 | 第28-29页 |
| 2.6.1 As浓度的测定 | 第28页 |
| 2.6.2 Fe浓度的测定 | 第28页 |
| 2.6.3 Cu浓度的测定 | 第28-29页 |
| 3 吸附剂的筛选及表征 | 第29-44页 |
| 3.1 GO&FeCu吸附剂的筛选 | 第29-31页 |
| 3.1.1 不同氧化程度GO改性铁铜的筛选 | 第29页 |
| 3.1.2 不同GO添加量改性铁铜的筛选 | 第29-30页 |
| 3.1.3 不同铁铜比例的筛选 | 第30-31页 |
| 3.2 GO的表征分析 | 第31-33页 |
| 3.2.1 X射线衍射分析 | 第31-32页 |
| 3.2.2 拉曼光谱分析 | 第32页 |
| 3.2.3 傅里叶红外光谱分析 | 第32-33页 |
| 3.3 吸附剂的表征分析 | 第33-43页 |
| 3.3.1 X射线衍射分析 | 第33-34页 |
| 3.3.2 比表面积分析 | 第34-35页 |
| 3.3.3 热重/差示扫描量热分析 | 第35-36页 |
| 3.3.4 Zeta电位 | 第36页 |
| 3.3.5 傅里叶红外光谱分析 | 第36-37页 |
| 3.3.6 饱和磁场强度分析 | 第37-38页 |
| 3.3.7 X射线光电子能谱分析 | 第38-40页 |
| 3.3.8 扫描电镜分析 | 第40-42页 |
| 3.3.9 透射电镜分析 | 第42-43页 |
| 3.4 本章小结 | 第43-44页 |
| 4 9%GO2&Fe_3Cu_1吸附除砷性能及机理 | 第44-64页 |
| 4.1 吸附As(Ⅴ)性能及机理 | 第44-53页 |
| 4.1.1 吸附As(Ⅴ)的动力学特性 | 第44-47页 |
| 4.1.2 吸附As(Ⅴ)的等温线特性 | 第47-48页 |
| 4.1.3 pH对附效果的影响 | 第48-49页 |
| 4.1.4 干扰离子对吸附效果的影响 | 第49-50页 |
| 4.1.5 吸附As(Ⅴ)后扫描电镜分析 | 第50-51页 |
| 4.1.6 吸附As(Ⅴ)后红外光谱分析 | 第51-52页 |
| 4.1.7 吸附As(Ⅴ)后X射线光电子能谱分析 | 第52-53页 |
| 4.2 吸附As(Ⅲ)性能及机理 | 第53-62页 |
| 4.2.1 吸附As(Ⅲ)的动力学特性 | 第53-55页 |
| 4.2.2 吸附As(Ⅲ)的等温线特性 | 第55-57页 |
| 4.2.3 pH对吸附效果的影响 | 第57-58页 |
| 4.2.4 干扰离子对吸附效果的影响 | 第58页 |
| 4.2.5 吸附As(Ⅲ)后扫描电镜分析 | 第58-59页 |
| 4.2.6 吸附As(Ⅲ)后红外光谱分析 | 第59-60页 |
| 4.2.7 吸附As(Ⅲ)后X射线光电子能谱分析 | 第60-62页 |
| 4.3 本章小结 | 第62-64页 |
| 4.3.1 吸附除As(Ⅴ)小结 | 第62页 |
| 4.3.2 吸附除As(Ⅲ)小结 | 第62-64页 |
| 5 吸附剂的循环再生及应用研究 | 第64-69页 |
| 5.1 吸附As(Ⅲ)后吸附剂的再生及吸附As(Ⅲ)的动态应用 | 第64-66页 |
| 5.1.1 淋洗液的筛选及吸附循环再生 | 第64-65页 |
| 5.1.2 吸附剂的动态应用 | 第65-66页 |
| 5.2 吸附As(Ⅴ)后吸附剂的再生及吸附As(Ⅴ)的动态应用 | 第66-68页 |
| 5.2.1 淋洗液的筛选及吸附循环再生 | 第66-67页 |
| 5.2.2 吸附剂的动态应用 | 第67-68页 |
| 5.3 本章小结 | 第68-69页 |
| 6 结论与建议 | 第69-71页 |
| 6.1 结论 | 第69-70页 |
| 6.2 建议 | 第70-71页 |
| 致谢 | 第71-72页 |
| 参考文献 | 第72-81页 |
| 附录 硕士研究生学习阶段发表论文 | 第81页 |
