| 摘要 | 第4-5页 |
| Abstract | 第5-6页 |
| 1 绪论 | 第8-12页 |
| 1.1 本文的研究背景和现状 | 第8-10页 |
| 1.2 本文主要内容 | 第10-12页 |
| 2 表面等离子体和半导体量子点的介绍 | 第12-25页 |
| 2.1 表面等离子体介绍 | 第12-21页 |
| 2.2 半导体量子点介绍 | 第21-23页 |
| 2.3 本章小结 | 第23-25页 |
| 3 金纳米孔阵列与碲化镉量子点复合薄膜的制备 | 第25-36页 |
| 3.1 纳米加工技术简介 | 第25-26页 |
| 3.2 金纳米孔阵列薄膜的制备方案 | 第26-27页 |
| 3.3 掩膜板的制作 | 第27-30页 |
| 3.4 脉冲激光沉积金 | 第30-33页 |
| 3.5 碲化镉量子点复合薄膜的制备 | 第33-35页 |
| 3.6 本章小结 | 第35-36页 |
| 4 金纳米孔阵列的光学性质 | 第36-50页 |
| 4.1 光在纳米小孔阵列中的传播 | 第36-39页 |
| 4.2 金纳米小孔阵列光传输的数值求解 | 第39-46页 |
| 4.3 金纳米小孔阵列光传输的实验测试 | 第46-49页 |
| 4.4 本章小结 | 第49-50页 |
| 5 金纳米孔阵列与碲化镉量子点复合薄膜的荧光测试 | 第50-60页 |
| 5.1 金纳米孔阵列的局域场增强 | 第50-52页 |
| 5.2 金纳米孔阵列与碲化镉量子点复合薄膜的荧光测试 | 第52-59页 |
| 5.3 本章小结 | 第59-60页 |
| 总结与展望 | 第60-61页 |
| 致谢 | 第61-63页 |
| 参考文献 | 第63-67页 |